Основные технические параметры

УСТАНОВКА «КРИСТАЛЛ – 503»
Предназначена для производства прутков кремния диаметром 7 мм и длиной 2600 мм методом
группового выращивания из расплава с пьедестала при электромагнитном формообразовании
поверхности расплава. Процесс проводится в вакууме или газовой среде.
Мощность колебательная, кВт, не менее
Мощность, потребляемая от сети, кВт
Частота рабочая, кГц
Количество одновременно выращиваемых
стержней основ
Длина выращиваемых стержней основ,
мм (уточняется заказчиком)
Диаметр выращиваемых стержней основ, мм
диаметр исходного слитка, мм
Остаточное давление в камере в режиме плавки, торр, не более
Натекание в рабочую камеру, л·мк, не более
Избыточное давление в камере, кгс/см2, не более
Диапазон регулирования скорости перемещения
верхнего держателя, мм/мин
Диапазон регулирования скорости перемещения
нижнего держателя, мм/мин
Диапазон регулирования частоты вращения
нижнего держателя, об/мин
Скорость установочного перемещения
нижнего держателя, мм/мин
Длина перемещения нижнего держателя, мм
Расход охлаждающей воды, м3/час, не более
Габаритные размеры установки
в плане, мм
высота, мм
Масса установки, кг, не более
Производительность при круглосуточной
работе м/час, не менее
60
130
880
7
2600
7±0,5
90±1
5·10-5
1
0,7
6÷600
0,05÷5
0,5÷50
165
200
6
3500х2900
5000
2500
70
Установка должна эксплуатироваться в помещении
при температуре воздуха
15 - 25ºС
Вода применяемая для охлаждения, установки должна
удовлетворять следующим требованиям:
- температура на входе, ºС
15 – 25
- температура на выходе, ºС, не более
55
- давление, кгс/см2
2,5±0,5
- удельное сопротивление, кОм ·см, не менее
10
- жесткость, мг·экв/л, не более
8,5
Параметры питающей сети
380В; 50Гц; 3 – фазы
Установка предназначена для эксплуатации в помещении, пол которого не имеет толчков и
вибрации с ускорением более 10 -3q в диапазоне частот 1-35 Гц.