В ходе выполнения проекта по Соглашению о предоставлении субсидии от 20.10.2014 г. № 14.577.21.0115 с Минобрнауки России в рамках федеральной целевой программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014-2020 годы» на этапе № 2 в период с 01.01.2015 г. по 30.06.2015 г. выполнялись следующие работы: 1) Разработка специализированного программного обеспечения для синтеза геометрических параметров плазмонных решеток со спектрально-угловой селективностью с учетом параметров выбранных тонкопленочных наноматериалов. 2) Проведение сравнительного анализа методов получения экспериментальных образцов комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе результатов изготовления тестовых образцов ГОЭ-ДОЭ методами электронно-лучевой и лазерной литографии, и выбор оптимального метода их получения. 3) Разработка тестовых задач для моделирования работы комбинированных ГОЭ-ДОЭ, иллюстрирующих наличие влияния погрешностей изготовления отдельных операций в цепочке технологического процесса на качество формируемых ими волновых фронтов света и спектральных характеристик. 4) Разработка методических рекомендаций по расчету геометрических параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ. 5) Разработка программного обеспечения для расчёта геометрических параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе анализа спектрально-угловых характеристик методом фурье-мод. 6) Закупка технологического оборудования. 7) Разработка технологии напыления металлизированных покрытий для ГОЭ-ДОЭ с целью формирования плазмонных эффектов наноструктурированных дифракционных решетках. 8 ) Материально-техническое обеспечение работ по п. 2.2 ПГ. в При этом были получены следующие результаты: 1) В результате сравнительного анализа вариантов технологических процессов изготовления тестовых образцов ГОЭ-ДОЭ показано, что для изготовления плазмонных дифракционных решеток следует применять электронно-лучевую литографию, создавая саму дифракционную решетку в слое электронорезиста. Для изготовления рельефно-фазовых дифракционных решеток с периодами от 1000 до 1200 нм может быть применен метод фотолитографии по способу dot-matrix. В то же время, рельефно-фазовые дифракционные решетки с периодами от 600 до 900 нм должны также изготавливаться методом электроннолучевой литографии. Основные технические параметры полученных тестовых образцов ГОЭ-ДОЭ: - период плазмонной дифракционной решетки – в среднем 420 нм; - глубина нанорельефа плазмонного спектрального фильтра – 22 нм; - глубина микрорельефа функциональной части ГОЭ-ДОЭ – 114 нм; - период структуры рельефно-фазовой дифракционной решетки – от 0,61 до 1,23 мкм. 2) Разработанное новое программное обеспечение для расчёта геометрических параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе анализа спектрально-угловых характеристик методом фурье-мод позволяет создать концепцию создания рельефно-фазовой дифракционной решетки для комбинированного ГОЭ-ДОЭ. 3) В ходе выполнения 2 этапа ПНИ получены результаты, соответствующие требованиям Технического Задания и План-графика исполнения обязательств. Результаты выполнения 2 этапа проекта позволят приступить на следующем этапе ПНИ к выбору ключевых операций технологическогопроцесса и разработке технологического маршрута получения экспериментальных образцов комбинированных ГОЭ-ДОЭ. Комиссия Минобрнауки России признала обязательства по Соглашению на отчетном этапе исполненными надлежащим образом.