ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ЛЕНГМЮРОВСКИХ МОНОСЛОЕВ ЖИРНОЙ КИСЛОТЫ ПОД ВОЗДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ Чумаков А.С., Горбачев И.А., Ермаков А.В., Ким В.П., Глуховской Е.Г. Саратовский государственный университет им. Н.Г.Чернышевского E-mail: [email protected] В настоящее время метод Ленгмюра-Блоджетт позволяет формировать мономолекулярные слои (так называемые ленгмюровские монослои, далее МС) на границе раздела газ-жидкость и получать уникальные слоистые структуры, в которых каждый мономолекулярный слой может иметь свой собственный химический состав, кристаллическую структуру и ориентацию молекул. Формирование монослоя и его структура зависит от многих факторов, таких как температура субфазы, ее состав, концентрация ПАВ, внешние электрические и магнитные поля и др. Одним из менее изученных факторов остается воздействие электрического поля. Обычно, оно используется лишь при проведении исследований МС, например, исследований особенностей структурных перестроек в МС методом скачка потенциала. Использование электрического поля в качестве технологического фактора практически не исследовано. Влияние электрического поля на процессы, протекающие в ленгмюровской ванне, описывается только в случае направления вдоль поверхности монослоя [1]. Исследования, посвященные влиянию на МС электрического поля, направленного нормально к поверхности монослоя, найдены не были. Для таких исследований была специально разработана [2] система электродов для существующей ванны ЛБ (MDT-LB5, разработанная НТ-МДТ и Гос. НИИ Физических проблем г. Москва), и изменена конструкция барьеров. Данная установка позволяет получать зависимости поверхностного давления от удельной площади при исследованиях МС методом изотерм сжатия под воздействием электрического поля. В результате экспериментов было обнаружено следующее: Электрическое поле оказывает наиболее существенное влияние на формирование жидкоконденсированной фазы, если в качестве субфазы используется деионизованная вода. Участок изотермы ЖК участка растягивается (примерно, на 25% и для «+/–» cверху – вниз) (рисунок 1) при приложении напряжения на электроды. Величина растяжения не столько зависит от направления вектора поля (вверх или вниз), сколько от самого факта наложения поля (есть или нет). А при формировании МС на поверхности раствора NiCl2 наблюдаются, по сути, обратные эффекты - ЖК состояние в МС Arh формируется при достаточно сильном разряжении молекул на поверхности – при значении удельной площади A = 0,55 нм2, в то время, как при приложении электрического поля значение удельной площади для ЖК состояния становится заметно меньше (рисунок 2). Рисунок 1 - Изотермы сжатия монослоя арахиновой кислоты на поверхности деионизованной воды под воздействием нормально приложенного электрического поля 1 - вектор напряженности электрического поля направлен вниз; 2 - вектор напряженности электрического поля направлен вверх; 3 - электрическое поле отсутствует. Рисунок 2 - Изотермы сжатия монослоя арахиновой кислоты на поверхности раствора NiCl2 под воздействием нормально приложенного электрического поля 1 - электрическое поле отсутствует; 2 - вектор напряженности электрического поля направлен вниз; 3 - вектор напряженности электрического поля направлен вверх. Возможно часть ионов ОН– вступает во взаимодействие с ионами Ni+2 (при приложении положительного потенциала к верхнему электроду) и препятствует протеканию реакции образования соли (арахината никеля), которая разрыхляет монослой без поля. При другой полярности подтягиваются ионы Cl–, которые не взаимодействуют с монослоем, т.к. его нижняя часть итак заряжена отрицательно, а ионы Ni+2 уходят вниз, также блокируя образование соли. Библиографический список 1. Khomutov G. B. Formation of nanoparticles and one-dimensional nanostructures in floating and deposited Langmuir monolayers under applied electric and magnetic fields / G. B. Khomutov, S. P. Gubin, V. V. Khanin // Colloids and Surfaces: Physicochemical and Engineering Aspects 198–200. 2002. P 593–604. 2. Е. Г. Глуховской, Г. Б. Брецезинский, И. А. Горбачев, В. П. Ким. / Пат. 111297 Российская федерация. Установка для получения монослоев методом Ленгмюра_блоджетт в электрическом поле. Патентообладатель ФГБОУ ВПО "Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского".