1 УДК 535:621.373.8; 535:621.375.8 ВОЛЬТАМПЕРНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА ЛАЗЕРНОГО ДИОДА С КВАНТОВОРАЗМЕРНОЙ АКТИВНОЙ ОБЛАСТЬЮ Матюхин С.И., Макулевский Г.Р. Россия, г. Орел, ФГБОУ ВПО «Госуниверситет – УНПК» Представлена математическая модель прямой ветви вольтамперной характеристики лазерного диода на основе AlGaAs с раздельным ограничением и квантоворазмерной активной областью, позволяющая изучить факторы, определяющие пороговое напряжение и дифференциальное сопротивление таких диодов. A mathematical model of the forward I-V characteristics of the AlGaAs laser diode with separate confinement and quantum-well active region for determining the threshold voltage and differential resistance of the diodes is presented. Одной из фундаментальных проблем лазерной техники является проблема повышения эффективности преобразования электрической энергии в энергию когерентного лазерного излучения. Возможным способом решения этой проблемы является понижение тепловых потерь лазерных диодов, обусловленное снижением их порогового напряжения UT и дифференциального сопротивления r. В настоящей работе построена математическая модель прямой ветви ВАХ лазерного диода на основе AlGaAs с раздельным ограничением и квантоворазмерной активной областью, позволяющая изучить все факторы, определяющие эти характеристики диодов. Исходя из структуры лазерного диода, можно сделать вывод, что прямое падение напряжения на диоде равно: (1) U F U j U B U l , j l где первое слагаемое в правой части отвечает сумме падений напряжения U j на гетеропереходах, второе – падению напряжения U B на слаболегированной n-базе, а третье – суммарному падению напряжения на сильно легированных слоях полупроводниковой структуры, которое определяется их омическим сопротивлением rl и током IF: d (2) U l rl I F l S l I F . 0 l l l В выражении (2) S0 L0W0 – это активная площадь переходов, равная в случае полосковых контактов произведению длины лазерного резонатора L0 на ширину полоска W0 ; dl – толщины соответствующих слоёв, а l – удельные сопротивления этих слоев, определяемые подвижностью соответствующих носителей заряда l [1] и уровнем легирования слоёв Nl : 1 l . (3) el N l Падение напряжения на n-базе при высоких уровнях инжекции равно [2]: d 1.5kT d (4) UB exp B B B I F , 2 pB e S 0 где d B – равная ширине волновода толщина n-базы, а pB DaB pB – амбиполярная диффузионная длина дырок в волноводе, которая выражается через амбиполярный коэффициент диффузии DaB 2 D pB /(1 pB / nB ) . Величины nB и pB в этом последнем выражении – это подвижности электронов и дырок, а D pB и pB – соответственно, коэффициент диффузии и 2 среднее время жизни дырок в волноводе. Исходя из соотношения Эйнштейна, D pB kT pB / e , а среднее время жизни дырок в AlxGa1-xAs мы принимаем равным 1 нс ( p 2 1 нс). Первое слагаемое в выражении (4) учитывает тот факт, что сопротивлением квантоворазмерной активной области при высоких уровнях инжекции можно пренебречь, а удельная электропроводность волновода из-за роста концентрации электронов и дырок увеличивается с ростом тока пропорционально току. Вследствие этого падение напряжения на базе остается постоянным. Однако с ростом концентрации носителей в базе возрастает инжекция неосновных носителей в p+- и n+-эмиттеры, коэффициенты инжекции этих эмиттеров падают; кроме того, начинает проявляться взаимное рассеяние электронов и дырок, что приводит к уменьшению их подвижности. Вследствие этого проводимость базы, несмотря на рост концентрации электронов и дырок, остается примерно постоянной, а падение напряжения на базе возрастает пропорционально току. Это обстоятельство учитывает второе слагаемое в выражении (4). Входящее в это слагаемое удельное сопротивление B , обусловленное взаимным рассеянием носителей, является в нашей модели феноменологическим параметром и уменьшается с температурой как T 1.5 вследствие роста определяемой рассеянием подвижности [2 – 3]: B 0 meB mhB T0 , B2 meB mhB T 1.5 (5) где T0 = 300 K, B – диэлектрическая проницаемость [4], а meB и mhB – эффективные массы электронов и дырок в волноводе [5]. 0 в данном случае – это подгоночная постоянная; сравнение теоретических расчетов с экспериментальными данными [6] дает для этой постоянной величину 0 114 Омсм. Сумму падений напряжения на гетеропереходах лазерной структуры согласно существующей теории гетеропереходов [7] можно представить в виде: kT I (6) U j e ln IF 1 , j S где – так называемый фактор идеальности, а I S – обратный ток насыщения. Если ток через диод ограничивается процессами термоэлектронной эмиссии на + p -n-гетеропереходе [8], N 1 B B , (7) E NE T e (8) exp C , T0 kT где E и N E – диэлектрическая проницаемость и уровень легирования p-эмиттера, C – возI S A*S0 N E никающая на p+-n-гетеропереходе контактная разность потенциалов [7], а A* – постоянная, определяемая, в основном, проницаемостью барьера на гетерогранице. Сравнение теоретических расчетов с экспериментальными данными [6] дает для A* величину A* 2.210–16 Асм. Таким образом, вольтамперная характеристика лазерного диода в прямом направлении имеет вид: 1.5 d B 0 kT I F 1.5kT meB mhB T0 d B d UF ln exp 2 I F l l I F . (9) e e S0 IS l 2 pB B meB mhB T S0 3 Рисунок 1 – ВАХ лазерного диода на основе AlGaAs, излучающего на длине волны 808 нм. Сплошные кривые – результаты теоретических расчетов по формуле (37); маркеры – результаты компьютерного моделирования в пакете Sentaurus TCAD фирмы Synopsys. Степень согласия теоретических расчетов по формуле (9) [сплошные кривые] с результатами компьютерного моделирования лазерного диода [8 – 9] (маркеры) демонстрирует рисунок 1. Работа выполнена в НОЦ ОрелНано [10] при финансовой поддержке РФФИ и Администрации Орловской области. Грант №12-02-97512. Литература 1. Sotoodeh M., Khalid A.H., Rezazadeh A.A. Empirical low-field mobility model for III–V compounds applicable in device simulation codes // Journal of Applied Physics. 2000. V.87. N. 6. P. 2890 - 2900. 2. Евсеев Ю.А., Дерменжи П.Г. Силовые полупроводниковые приборы. - М.: Энергоиздат, 1981. С. 9 - 50. 3. Отблеск А.Е., Челноков В.Е. Физические проблемы в силовой полупроводниковой электронике. - Л.: Наука, 1984. С. 8 - 11. 4. Samara G.A. Temperature and pressure dependence of the dielectric constants of semiconductors // Phys. Rev. B. 1983. V. 27. P. 3494 - 3505. 5. New Semiconductor Materials. Characteristics and Properties.- Electronic archive of the Ioffe Institute: http://www.ioffe.rssi.ru/SVA/NSM/Semicond/AlGaAs/index.html (или http://www.matprop. ru/AlGaAs). 6. Мощные лазеры ( = 808 нм) на основе гетероструктур раздельного ограничения AlGaAs/GaAs /Андреев А.Ю., Зорина С.А., Лешко А.Ю., Лютецкий А.В., Мармалюк А.А., Мурашева А.В., Налет Т.А., Падалица А.А., Пихтин Н.А., Сабитов Д.Р., Симаков В.А., Слипченко С.О., Телегин К.Ю., Шамахов В.В., Тарасов И.С.//ФТП. - 2009. - Т. 43. - Вып. 4. - С. 543 - 547. 7. Шарма Б.Л., Пурохит Р.К. Полупроводниковые гетеропереходы. - М.: Советское радио, 1979. 232 с. 8. Зависимость характеристик полупроводникового ДГС РО лазера на основе AlGaAs от концентрации алюминия в области волновода и эмиттеров /Матюхин С.И., Козил З.Ж., Магомедов Г.Р., Малый Д.О., Ромашин С.Н. //Фундаментальные и прикладные проблемы техники и технологии. 2011. - №3 (287). - C. 26 - 35. 9. Матюхин С.И., Козил З.Ж. Зависимость характеристик полупроводникового ДГС РО лазера на основе AlGaAs от ширины квантоворазмерной активной области // Наноинженерия. - 2012. - № 5. С. 14 - 17. 10. Степанов Ю.С., Барсуков Г.В., Степанова Е.Ю. Научно-образовательный центр нанотехнологий в структуре учебно-научно-производственного комплекса // Наноинженерия. - № 5. – 2012. – С. 3 – 6. Матюхин Сергей Иванович, д.ф.-м.н., доцент, ФГОУ ВПО «Госуниверситет – УНПК», декан Естественнонаучного факультета, тел. (4862) 41-98-8, e-mail: [email protected] Макулевский Гаджи Рашидович, ФГОУ ВПО «Госуниверситет – УНПК», аспирант, тел. (4862) 41-98-89, e-mail: [email protected].