Uploaded by baldorg

Тезисы (вариант от 18.03) (2)

advertisement
Дифрактометрия высокого разрешения: настройка и калибровка дифрактометра BEDE D1
и его применение на примере широкозонного материала Ga2O3 и гетероструктуры
GaAs/AlGaAs
Игнатов А.А. (m1908183@edu.misis.ru)
ММТМ-22-3
Дифрактометрия высокого разрешения (high resolution XRD - HR-XRD) современный метод исследования перспективных структур, универсальный и
неразрушительный, для изучения широкого спектра структурных несовершенств, в т.ч. в
эпитаксиальных гетероструктурах, с развитой теоретической базой. В работе использован
многоцелевой автоматизированный рентгеновский дифрактометр Bede D1 фирмы «Bede D1
System».
Проведена настройка и калибровка Bede D1, достигнуты заводские технические
параметры, с помощью совершенного монокристалла Si (100), для симметричного
отражения 400, и проведены измерения несимметричных отражений 422, с идентификацией
направлений осей X и Y, которые соответствуют группе направлений [110]. С помощью
тонкой настройки блока зеркала Гебеля фирмы OSMIC, в низком разрешении получены
дифракционные кривые для Kα1,2 излучения Cu, с полушириной нормальных
распределений 108″. В HR-XRD схеме многокристалльного коллиматора с применением
схемы Люксли – Таннера – Боуэна для Сu Kα1 – излучения для симметричного отражения
220 получена полуширина брэгговского отражения Si 400 7,6″.
Исследованы α, κ и ε полиморфные модификации Ga2O3, выращенные на подложках
из Al2O3 и GaN, в схеме θ - 2θ определен фазовый состав выращенных эпитаксиальных
слоёв, и определены полуширины пиков (Ω сканирование). Ga2O3 – перспективный
широкозонный материал для производства мощных и высокочастотных электронных
устройств (силовых транзисторов, р/ч переключатели и УФ-датчиков, оптических фильтров
и УФ-лазеров, газовых датчиков и т.д.
Рисунок 1 – измерение фазового состава HVPE образца Ga2O3 (κ модификация)
Проведены измерения кривых качания HR-XRD схеме для многослойной
гетероструктуры с 200 слоями выращенными на подложке n-GaAs толщиной d=350 мкм,
ориентацией (001). Состав слоёв GaAs (5,5 нм) и Al0.15Ga0.85As (2,8 нм), применяется для
производства квантово-каскадных лазеров терагерцового диапазона. С применением
программы RADS BEDE Scentific смоделирован состав структуры в пределах отклонения
1-2% от полученных данных.
Научный руководитель – к.ф.‑м.н. Жевнеров Е.В.
Download