Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 д.т.н. Улимов Улимов В.Н. В.Н. д.т.н. Пицунда-2010 Пицунда-2008 Основные эффекты воздействия факторов ЯВ, КП и АЭС на ПП и РЭА Структурные радиационные эффекты (ЯВ, КП и АЭС) • Изменение τ и n Дозовые эффекты в окислах и на границах разделов окисел-полупроводник (ЯВ, КП и АЭС) • Изменение заряда в МОП структурах Переходные фототоки в p-n переходах (ЯВ) • (10-3 – 101)А при Р ≈109 рад(Si)/сек. Регистрируют УБР и ВПР. • 1018 носителей/см3 при 109 рад(Si)/сек. – гораздо выше плотности легирования ПП элементов. • Тиристорный эффект (продолжение) д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Основные эффекты воздействия факторов ЯВ, КП и АЭС на ПП и РЭА (продолжение) Эффекты одиночных событий при воздействии протонов и ТЗЧ космического пространства, атмосферных нейтронов и термоядерных нейтронов ЯВ (ЯВ, КП) • потеря информации • тиристорный эффект • прожиг Первичные электромагнитные эффекты от ЯВ (ЯВ) • наведенные в РЭА токи и потенциалы • электрические пробои Вторичные электромагнитные эффекты от ЯВ и КП (ЯВ) • ЭМИ ГС • ВЭМИ • электризация д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Комплекс установок и стендов, обеспечивающих основные задачи ФГУП НИИП: • Импульсный исследовательский ядерный реактор: БАРС - 4 • Бассейновый реактор ИРВ - 1М (в стадии реконструкции) • Импульсные ускорители электронов: ЛИУ - 10, РИУС - 5, УИН - 10 • Резонансный ускоритель электронов «Электроника У - 003» (продолжение далее) д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 (продолжение) • Гамма - установки: ГУ - 200, «Гаммарид», «Агат», «Исследователь» • Бета - установка «Сириус - 3200» (на основе стронций - иттриевых источников) • Установки климатико - механического комплекса • Генераторы импульсов напряжения д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 БАРС - 4 Назначение • Импульсный двухзонный ядерный реактор БАРС - 4 предназначен для моделирования воздействия гамма - нейтронного импульса ядерного взрыва при исследовании радиационной стойкости элементов РЭА и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Импульсный двухзонный ядерный реактор БАРС - 4 • Число делений за импульс в каждой зоне 1,5·1017 дел. • Флюенс нейтронов за импульс: - в центральном канале 5,7·1014 н/см2·с - на поверхности АЗ 1,4·1014 н/см2·с • Экспозиционная доза гаммаизлучения за импульс: - в центральном канале 100 кР - на поверхности АЗ 10 кР д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 ИРВ - М1 Назначение • Исследовательский статический ядерный реактор бассейнового типа ИРВ - М1 предназначен для проведения исследований и испытаний объектов при воздействии ИИ ЯЭУ различного спектрального состава. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Статический ядерный реактор ИРВ - М1 • Тепловая мощность - 4 МВт • Экспериментальные устройства: - горизонтальные каналы объемом 1,5 м3 - 2шт. (Плотность нейтронного потока 1010 н/см2·с); вертикальные каналы: диаметром 210 мм - 5 шт. (Плотность нейтронного потока 0,8·1013 н/см2·с); диаметром 150 мм - 2шт. (Плотность нейтронного потока - 1,5·1013 н/см2·с). д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 ЛИУ - 10 Назначение • Используется для моделирования воздействия мгновенного гамма излучения ядерного взрыва на элементы РЭА и ЭРИ при предельных значениях мощности дозы. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Импульсный ускоритель электронов ЛИУ-10 • Ток пучка электронов 60 кА • Энергия электронов 10 МэВ • Длит. импульса по основанию 20 нс • Доза гамма - излучен. в импульсе 10 кР д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 РИУС - 5 Назначение • Используется для моделирования воздействия мгновенного гамма излучения ядерного взрыва на элементы РЭА и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Импульсный ускоритель электронов РИУС - 5 • Энергия электронов 3 МэВ • Длит. импульса по основанию 40 нс • Мощность дозы 3,5·1010 р/с д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 УИН - 10 Назначение • Используется для моделирования комплексного воздействия импульсного гамма-излучения и электромагнитного импульса ядерного взрыва при исследовании радиационной стойкости элементов РЭА и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Импульсный ускоритель электронов УИН - 10 • Энергия электронов 10 МэВ • Ток пучка электронов 100 кА • Длительность импульса 100 нс; 1…3 мкс д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 «ИИЭМП» Назначение • Моделирующая установка «ИИЭМП» предназначена для проведения испытаний радиоэлектронной аппаратуры различного назначения в условиях воздействия электромагнитного импульса ядерного взрыва. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Установка импульсного воздействия ЭМИ - « ИИЭМП» • • • • Напряженность: электрического поля 100 кВ/м магнитного поля 250 А/м Длительность импульса 20 нс Длительность фронта < 3 нс Экспериментальный объём - не более 1000 л д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 «Электроника У - 003» Назначение • Электронный ускоритель «Электроника У - 003» предназначен для проведения исследований и испытаний радиоэлектронной аппаратуры, ЭРИ и конструкционных материалов, работающих в условиях воздействия ионизирующих излучений космического пространства. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Линейный ускоритель электронов «Электроника У - 003» • • • • • • Диапазон энергии электронов (4 8) МэВ Максимальный ток пучка электронов 300 мкА Длительность импульса 5 нс - 4 мкс Частота следования импульсов 10 - 300 Гц и однократно Площадь облучения 0,5 м х 0,5 м Плотность потока электронов (106 - 109) 1/см2·с д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 ГУ - 200 Назначение • Гамма - установка ГУ - 200 используется для исследования радиационной стойкости РЭА, ЭРИ и конструкционных материалов при воздействии гамма излучения. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Радиационная изотопная установка ГУ-200 • Максимальная активность источника 200 кГ-экв. Ra • Источник излучения - Со60 • Экспозиционная мощность дозы - (3 1,5·103) Р/с • Объем облучательной камеры - 4х4х4 м д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 АГАТ- С (вторичный эталон) Назначение • Установка АГАТ-С является источником направленного гаммаизлучения и служит для поверки и градуировки детекторов гаммаизлучения, а также прецизионных исследований радиационной стойкости элементов РЭА и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Радиационная изотопная установка АГАТ- С • Источник излучения кобальт- 60 • Мощность экспозиционной дозы 0,60 - 390 мР/с ( погрешность 2%) д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 «Исследователь» (эталон 1-го разряда) Назначение • Установка «Исследователь» является источником диффузного гаммаизлучения и служит для поверки и градуировки детекторов гаммаизлучения, а также прецизионных исследований радиационной стойкости элементов РЭА и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Радиационная изотопная установка «Исследователь» • Источник излучения кобальт - 60 • Мощность экспозиционной дозы 12,6 Р/с (погрешность 3,5%) д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Сириус - 3200 Назначение • Изотопная установка Сириус - 3200 предназначена для моделирования воздействия электронного излучения космического пространства на радиоэлектронную аппаратуру и ЭРИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Радиационная изотопная установка «Сириус - 3200» • Источник излучения стронций - 90 • Средняя энергия бета - частиц (0,3 - 0,9) МэВ • Плотность потока бета - частиц (5·104 - 6·108) 1/см2·с • Площадь излучающей поверхности 0,2м х 0,3м д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Камера тепла и холода КТХ - 800 Назначение • Предназначена для проведения климатических испытаний изделий электронной техники и радиоэлектронной аппаратуры. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Камера тепла, холода и влаги КТК - 800 • Влажность - до 100% • Объем камеры - 0,8 м3 • Температурный диапазон от - 60оС до + 85оС д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Вибрационный электродинамический стенд ВЭДС- 400А Назначение • Предназначен для аттестации изделий электронной техники и радиоэлектронной аппаратуры на виброустойчивость после воздействия ионизирующих излучений. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Стенд вибрационный электродинамический ВЭДС - 400А • Частота вибрации (10 - 5000) Гц • Ускорение (1 - 40) g • Вибрация синусоидальная • Вес изделия до 80 кг д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Стенд ударный электродинамический Назначение • Предназначен для аттестации изделий электронной техники на ударные воздействия после облучения. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Стенд ударный электродинамический • Ударное ускорение (1 - 5000) g • Длительность воздействия 0,02 мс • Вес изделия до 1 кг д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Перечень спецфакторов «Кл - 7», обеспечиваемых моделирующими установками НИИП Факторы ЯВ и ЯЭУ Барс - 4 РИУС - 5, ЛИУ - 10, УИН - 10 7И1 = 1012 - 5.10 14 7И3 = 1016 - 10 19 7И4 - по СЭС 7И5 - для тип. формы им.№2 7И7 = 102 - 105 7С1 = 1012 7С3 - по СЭС 7И6 =107 - 1012 (УИН - 10 по 7И7 до 105) 7И8 - 7И10 по СЭС 7И11 - тип. формам №1, (РИУС - 5) и №2 УИН - 10 Факторы КП ГУ - 200, АГАТ - С, ГАММАРИД - М 7И7 = 103 - 106 7С4 = 105 - 108 Электроника, Сириус - 3200, Калифорний 7К1 =104 - 6.107 7К3 - по СЭС 7К11 , 7К12 - по плотн. частиц и СЭС ТЗЧ И - 2 (ИТЭФ), И - 100 (ИФВЭ) 7К4 = 105 - 106 7К6 - по СЭС Обеспечение испытаний на всех моделирующих установках в рабочем диапазоне температуры окружающей среды (-60 - +125оС) Обеспечение испытаний на воздействия повышенной и пониженной температуры и механических нагрузок после воздействия ИИ. д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Перечень спецфакторов «Кл -7», не обеспечиваемых моделирующими установками НИИП Факторы ЯВ и ЯЭУ Факторы КП 7И2 – может быть учтен введением КОЭ 7И12 – оценка производится расчетным путем 7И13 – оценка производится расчетноэкспериментальным путем с использованием данных по 7И6 7К2, 7К – завышены 7С2 = 104 и 7С5 = 10-3 – 3,10-3 – завышены Исследование электрической прочности облученных ЭРИ д.т.н. Улимов В.Н. Пицунда-2010 Краткий курс Базовые механизмы формирования радиационных эффектов в ПП, ИС и РЭА В.Н. Улимов СТРУКТУРНЫЕ РАДИАЦИОННЫЕ ДЕФЕКТЫ В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРАХ (ПП) И ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМАХ (ИС) Пицунда -2010 Структурные радиационные дефекты в ПП и ИС ОБРАЗОВАНИЕ ПЕРВИЧНЫХ ДЕФЕКТОВ Нейтроны – упругое рассеяние Протоны Дейтоны резерфордовское Альфа-частицы рассеяние Электроны Атомы Вакансии и отдачи смещенные в междоузлия (пары Френкеля) Гамма-кванты (<5 МэВ) фотоэффект, комптоновское рассеяние, рождение электронно-позитронных пар (>5 МэВ) Cо60 (Е=1,25 МэВ) образует электроны со средней энергией ~ 0,59 МэВ Д.т.н. Улимов В.Н., Пицунда-2010 Структурные радиационные дефекты в ПП и ИС ОБРАЗОВАНИЕ ВТОРИЧНЫХ РАДИАЦИОННЫХ ДЕФЕКТОВ Дивакансии V20, V2-, V2+, V2- Ассоциация вакансий и кислорода (А-центр) и фосфора (Е-центр). Области разупорядочения (ОР или кластеры) 10-100 Ангстрем Остаточные повреждения при временах t > 103с не зависят от плотности потока частиц при воздействии При t = (10-4 – 103)с происходит быстрый отжиг с коэффициентом отжига АF, достигающим 2-3 раз и зависящим от температуры облучения, электрических нагрузок и энергии частиц. Дефекты создают в запрещенной зоне полупроводника акцепторные и донорные уровни. Для Si это в основном Ес – 0,17 эВ Еv + 0,27 эВ Отжиг всех дефектов при Т>600 К. Д.т.н. Улимов В.Н., Пицунда-2010 Структурные радиационные дефекты в ПП и ИС ИЗМЕНЕНИЕ СВОЙСТВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ ПРИ ОБЛУЧЕНИИ Концентрация свободных носителей заряда – уменьшается. Начальная скорость удаления носителей зависит от вида и энергии воздействующих частиц, температуры облучения, совершенства кристаллов. Подвижность носителей заряда – снижается. Зависит от температуры и вида воздействующих частиц. Удельное сопротивление – растет. Проводимость при облучении стремится к собственной. Время жизни неосновных носителей заряда - уменьшается. 1/ = 1/о + КФ К зависит от: скорости введения радиационных центров; сечений захвата центров; уровня Ферми; концентрации основных носителей заряда; температуры облучения. 50% изменений при облучении: - время жизни (1012 – 1013) н/см2 - удельное сопротивление ~7.1014 н/см2 - подвижность – 1016 н/см2Д.т.н. Улимов В.Н., Пицунда-2010