Моделирование объемных кристаллов и поверхностей простых и сложных оксидов гафния Докладчик: магистрант 1-го курса кафедры квантовой химии Е.Н. Блохин Научные руководители: к.х.н. доц. А.В. Бандура, д.ф.-м.н. проф. Р.А. Эварестов Актуальность исследования Устройства хранения информации (флэш-память) Высоковольтные емкости Электрохимические сенсоры Поверхности HfO2 и SrHfO3 Аккумуляторы Микроэлектроды Твердотельные топливные элементы 2 Объекты исследования Объемные кристаллы Поверхности HfO2 (куб.) флюорит HfO2 (орторомб.I) SG 61 (111) HfO2 (куб.) HfO2 (орторомб.II) котуннит SG 62 SrHfO3 (куб.) тисонит SrHfO3 (орторомб.) SrHfO3 (тетрагон.) (001) SrHfO3 (куб.) (001) и (110) SrHfO3 (орторомб.) 3 Задачи работы 1. Выбор оптимальной расчетной схемы. 2. Исследование структурных и электронных свойств поверхностей простых и сложных оксидов гафния. 3. Исследование адсорбции молекул воды, гидроксильных и водородных ионов. 4 Этапы работы Литературные данные Расчет объемных кристаллов Расчет поверхностей Расчет давления фазового перехода HfO2 орт.I - орт.II Исследование адсорбции 5 Выбор расчетной схемы Кристалл, свойство Псевдопотенциал MHF [1] Псевдопотенциал MWB [1] Эксперимент B3LYP PBE0 B3LYP PBE0 Параметр кр.решетки, SrHfO3(куб.), Å 4.21 4.18 4.13 4.12 4.11 [2] Параметр кр.решетки, HfO2(куб.), Å 5.18 5.14 5.11 5.07 5.12 [3] Модуль упругости, HfO2 (куб.), ГПа 240 250 250 270 262*[7] 6 Расчет давления фазового перехода HfO2 орт.I - HfO2 орт.II 0.05 0.04 0.03 Оксид гафния орт.I Оксид гафния орт.II E 0.02 0.01 -0.12 -0.10 -0.08 -0.06 0.00 -0.02 0.00 -0.04 0.02 0.04 0.06 -0.01 V 7 Расчет давления фазового перехода HfO2 орт.I - HfO2 орт.II -794.2 -794.25 0 2 4 6 8 10 12 14 16 -794.3 -794.35 -794.4 -794.45 H Оксид гафния орт.I Оксид гафния орт.II -794.5 -794.55 -794.6 Pфаз.=7ГПа -794.65 -794.7 -794.75 P 8 Расчет давления фазового перехода HfO2 орт.I - HfO2 орт.II Фаза орторомб.I орторомб.II Свойство Эта работа Лит.расчет, LDA [4] Модуль упругости, ГПа 240 215 284 [5] Производная м. упр. B' 2.3 - 4.2 [5] Эксперимент Давление фазового перехода, ГПа 7 6.5 12 [6] 32 [5] Модуль упругости, ГПа 245 288 306 [7] Производная м. упр. B' 5.3 - 2.6 [5] 9 Результаты расчетов объемных кристаллов HfO2 (куб.) флюорит HfO2 (орторомб.) котуннит SrHfO3 (куб.) тисонит SrHfO3 (орторомб.) 10 Результаты расчетов объемных кристаллов HfO2 Фаза куб. Свойство Эта работа Эксперимент Энергия связи, эВ 22.4 22 [8] Ширина запр. зоны, эВ 6.3 5.8 – 6.8 [9] Модуль упругости, ГПа 270 262*[7] 5.07 5.12 [3] Параметры кр.решетки, Å орторомб.II Модуль упругости, ГПа 5.57 3.33 6.46 5.55 3.31 6.46 [10] 245 306 [8] 11 Результаты расчетов объемных кристаллов SrHfO3 Фаза куб. орторомб. тетрагон. Свойство Эта работа Эксперимент Энергия связи, эВ 32.8 34 [8] 4.12 4.11 [2] 5.77 8.18 5.81 5.75 8.13 5.76 [2] 5.75 8.35 5.79 8.21 [2] Параметры кр.решетки, Å 12 Модель двупериодической пластины Ключевые моменты: Симметрия кристалла, образующего поверхность Кристаллографические индексы Миллера Количество плоскостей Релаксация и реконструкция Терминация 13 Результаты расчетов поверхностей кубических кристаллов (111)-поверхность HfO2 (001)-поверхность SrHfO3 14 Результаты расчета HfO2-терминированной (001)-поверхности кубического кристалла SrHfO3 Свойство Расчет BSSE Эта работа Расчет LDA [11] Расчет GGA [11] Релаксация внешнего слоя атомов, Å Hf -0.10 O -0.11 Sr 0.13 O 0.01 Hf -0.11 O -0.10 Sr 0.14 O 0.01 Hf -0.11 O -0.12 Sr 0.13 O 0.00 Hf -0.14 O -0.10 Sr 0.17 O 0.00 Поверхностная энергия, Дж/м2 1.205 1.312 1.40 1.15 15 Результаты расчета SrO-терминированной (001)-поверхности кубического кристалла SrHfO3 Свойство Расчет BSSE Эта работа Расчет LDA [11] Расчет GGA [11] Релаксация внешнего слоя атомов, Å Sr -0.25 O 0.03 Hf 0.07 O 0.03 Sr -0.30 O 0.01 Hf 0.06 O 0.01 Sr -0.27 O 0.03 Hf 0.06 O 0.01 Sr -0.30 O 0.00 Hf 0.05 O 0.00 Поверхностная энергия, Дж/м2 1.205 1.312 1.40 1.15 16 Результаты расчета (111)-поверхности кубического кристалла HfO2 Свойство Значение Релаксация внешнего слоя атомов, Å O 0.024 Hf -0.032 O -0.033 Поверхностная энергия, Дж/м2 1.078 17 Результаты расчетов поверхностей орторомбических кристаллов SrHfO3 HfO2- и SrO-терминированные (001)-поверхности SrHfO3 HfO2- и SrO-терминированные (110)-поверхности SrHfO3 18 Результаты расчета HfO2-терминированной (001)-поверхности орторомбических кристаллов SrHfO3 Свойство Расчет BSSE Эта работа Релаксация внешнего слоя атомов, Å O -0.136 Hf -0.095 O 0.000 Sr 0.125 O 0.001 O -0.120 Hf -0.102 O 0.010 Sr 0.128 O -0.003 Поверхностная энергия, Дж/м2 1.268 1.382 19 Результаты расчета SrO-терминированной (001)-поверхности орторомбических кристаллов SrHfO3 Свойство Расчет BSSE Эта работа Релаксация внешнего слоя атомов, Å Sr -0.130 O 0.014 O 0.000 Hf 0.059 O 0.084 Sr -0.181 O -0.005 O -0.012 Hf 0.044 O 0.062 Поверхностная энергия, Дж/м2 1.268 1.382 20 Основные результаты и выводы 1. Показано, что для изучения простых и сложных оксидов гафния и их поверхностей предпочтительно использование гибридного метода функционала плотности PBE0 и скалярно-релятивистского псевдопотенциала MWB для атома Hf. 2. Установлено, что (111)-поверхность HfO2 (куб.) характеризуется низкими атомными релаксациями и поверхностной энергией; (001)-поверхность SrHfO3 характеризуется относительно более высокими атомными релаксациями и поверхностной энергией. 3. Получены исходные данные для изучения явлений адсорбции молекул на указанных поверхностях. 21 Заключение Основные результаты работы опубликованы в тезисах докладов международной конференции «Функциональные материалы и нанотехнологии» (Рига, 2008) и представлены к печати в международный журнал Acta Materialia. 22 Ссылки 1. http://www.theochem.uni-stuttgart.de/pseudopotentials/ 2. Kennedy, Howard, Chakoumakos, Phys. Rev., Serie 3. B - Condensed Matter (18,19781999), 60(5), 2972-2975 3. Gazzetta Chimica Italiana, (1930), 60, 762-776; Book of Phase Transitions, Wroclaw (2002), 1, 1-123 4. John E. Jaffe, Rafal A. Bachorz, and Maciej Gutowski, PHYS. REV. B 72, 144107 (2005) 5. S. Desgreniers and K. Lagarec, Phys. Rev. B 59, 8467 (1999) 6. A. Jayaraman, S. Y. Wang, S. K. Sharma, and L. C. Ming, Phys. Rev. B 48, 9205 (1993) 7. J.E.Lowtherand, J.K.Dewhurst, J.M.Legerand, J.Haines, PHYS. REV.B 1 DECEMBER 1999-I, 60, 21 8. Gurvich, LV, Veits, IV, et al. Glushko, VP, editor. Thermodynamic Properties of Individual Substances, 1978. Nauka, Moscow 9. Lim SG, Kriventsov S, Jackson TN, Haeni JH, Schlom DG, Balbashov AM, Uecker R, Reiche P, Freeouf JL, Lucovsky GJ. Appl Phys 2002; 91: 4500 10. Journal of the American Ceramic Society (1997), 80, 1910-1914, Haines, J. 11. Y. X. Wang, C. L. Wang, and W. L. Zhong, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 12909-12913 23