Обработка флексографских пластин

Технологическая инструкция.
Этапы обработки.
I.
II.
III.
IV.
V.
VI.
Экспонирование оборотной стороны пластины.
Основное экспонирование через негатив.
Вымывание незаполимеризованного материала с пробелов.
Сушка горячим воздухом..
Дополнительное экспонирование.
Финишинг.
I.
Экспонирование оборотной стороны - это воздействие УФизлучением диапозона А с длиной волны 360 нм на оборотную
сторону пластины (со стороны полиэфирной подложки) для
формирования основания будущих печатающих элементов и
для увеличения адгезии (сцепления) между фотополимерным
слоем и полиэфирной подложкой. Также повышается
чувствительность самого фотополимерного слоя.
1. Берется фотополимерная пластина, кладется оборотной стороной
вверх в секции экспонирования и засвечивается (без негатива и без
вакуума) в течении оптимального времени (см. тест на определение
оптимального времени экспонирования оборотной стороны) УФизлучением А с длиной волны 360 нм.
II. Основное экспонирование - это воздействие тем же (что и при
первой операции) УФ-излучением также в секции экспонирования
на фотополимеризующийся слой через негатив, который
укладывается эмульсионной стороной под вакуумом (через
вакуумную пленку), в результате чего происходит реакция
фотополимеризации на будущих печатающих элементах.
При этом стоит отметить тот факт, что экспонирование происходит
именно через пленку, а не через стекло как в офсетных
копировальных рамах, так как только эта пленка пропускает
необходимое для данной операции излучение.
1. Берется проэкспонированная ранее с оборотной стороны
фотополимерная пластина, переворачивается и снимается
защитная пленка.
2. На фотополимеризующийся слой эмульсионной стороной
накладывается негатив. При этом он обрабатывается очищающим
антистатическим средством (например, VARN Film Cleaner) и
какая-либо пыль должна отсутствовать полностью.
3. Далее накатывается вакуумная пленка и включается насос для
удаления воздуха и создания вакуума. Необходимое значение
вакуума 0,76 БАР. При этом какие-либо воздушные пузыри и не
прижим пленки должны отсутствовать. Должен быть
максимальный контакт между негативом и пластиной. Далее эта
композиция засвечивается УФ А излучением в течение
оптимального времени (см. тест на определение оптимального
времени основного экспонирования).
Вымывание - удаление незаполимеризованного материала с
пробельных элементов будущей формы под действием
вымывного раствора и щеток, что тем самым формирует
возвышающие печатающие и углубленные пробельные
элементы.
1. Берется проэкспонированная пластина без негатива и помещается
в вымывную секцию лицевой стороной по отношению к щеткам.
2. Достигается необходимая рабочая температура вымывного
раствора (информация о рабочей температуре определенного
раствора и для определенной
пластины
берется
из
технического описания к этим материалам).
3. Пластина вымывается в течение оптимального времени или при
оптимальной скорости (в зависимости от типа строения
вымывной
секции).
Оптимальный
режим
вымывания
определяется согласно тесту на определение оптимального
времени вымывания.
IV. Сушка горячим воздухом. Вследствие этого происходит
испарение растворителя с поверхности и глубины формы под
действием этого горячего воздуха.
1. Берется вымытая пластина и кладется в сушильную секцию
изображением (печатающими элементами) вверх.
Пластина сушится при 60 - 65 С горячим воздухом в течение
времени рекомендованного для данной пластины.
При недостаточном времени сушки форм, возможна их
разнотолщинность и снижение печатно-технических свойств.
II.
Финишинговая обработка - воздействие коротковолновым
УФ-излучением диапазона С при длине волны 250 нм
посредством специальных ламп в секции фнишинга, для
устранения появляющейся в процессе изготовления липкости
поверхностного слоя форм.
1. Берется высушенная пластина и помещается изображением
(печатающими элементами) вверх в секцию финишинга.
V.
2. Засвечивается в течение времени, составляющего 50 – 75 % от
основного экспонирования, УФ-С излучением. Это излучение
является агрессивным, т. е. переизбыток его может привести к
появлению трещин. Время финишинга должно быть минимально
необходимым (т. е. то, при котором начинает отсутствовать
липкость). Увеличивая или уменьшая продолжительность этой
операции можно, соответственно, увеличивать или уменьшать
краскоперенос формы.
VI. Дополнительное экспонирование - воздействие УФизлучением по всей поверхности печатной формы без вакуума
и негатива для полной полимеризации печатающих элементов
формы и увеличения ее тиражестойкости. Повысив
дополнительное
экспонирование,
можно
повысить
тиражестойкость формы.
1. Берется прошедшая обработку, пластина и кладется в секцию
экспонирования печатающими элементами вверх.
2. Засвечивается в течение времени, равного времени основного
экспонирования УФ-А излучением или немного (на 20 – 25 %)
меньше
Рекомендуемые фототехнические пленки.
FUJI FOTO FILM , АGFA – GEVAERT, CHEMCO, DU РONT,
GUILLEMINOT, FORD ANITEC, KODAK, KONICA,
LANGEBARTELS, 3M, POLYCHROME, TYPON и др
Более оптимально для экспонирования подходит фотопленка FUJI
FOTO FILM, так как в этом случае достигается высокий контраст и
четкая растровая точка любого размера.
Оптическая плотность непрозрачных участков негативов должна
быть минимум 4,0 ед., а прозрачных максимум – 0,03 – 0,05 ед.
Оптимальная толщина негатива для создания максимального
вакуума – 0,12 мм.
Размеры различных элементов на негативе должны быть
реальными.
Желательно, чтобы используемая пленка была матированной со
стороны эмульсии. Это необходимо для более плотного контакта
негатива с фотополимерной пластиной в процессе экспонирования.
Однако, вследствие того, что сам фотополимерный слой пластин
Cosmolight является матовым, то возможно использование и
глянцевых негативов, при этом потери в качестве не происходит.
Тестирование режимов изготовления
флексографских фотополимерных печатных форм.
I. В начале определяются параметры (время этой операции или
скорость, что зависит главным образом от построения секции
вымывания) операции вымывания. Это определяется посредством
следующих этапов:
1. Вырезается 4 необработанных (неэкспонированных) куска
пластины размером 12 х 17 см.
2. На каждый кусок необработанной пластины накладывается
защитная пластина (не пропускающая УФ-излучение) и
экспонируется без вакуума в течение 5 мин. в секции
экспонирования, по всей площади.
3. Затем эти куски пластины обрабатываются в вымывной секции
формного оборудования при разном времени или скорости.
Например, первый кусок вымывается 3 минуты, второй - 6 мин.,
третий - 9 мин. и четвертый - 12 мин.
4. Пластины сушатся 15 мин. (причем, это время сушки
действительно только для контрольных целей).
5. После сушки измеряется посредством специального прибора
(толщиномера с минимальным грузом) толщина пластины на
вымытых участках.
Из разности с заданной толщиной получается глубина вымывания.
Пример расчета:
Заданная толщина - 2,840 мкм
Вымытый участок - 1,640 мкм
Определенная глубина вымывания - 1,200 мкм.
В соответствии с рекомендуемой глубиной рельефа для
определенной толщины пластины, определяется оптимальное время
(или скорость) вымывания. При излишнем времени вымывания
происходит деформирование самих печатающих элементов, и
возможно удаление мелких печатающих элементов, т. е. оно должно
быть минимально достаточным.
II. Затем производится определение времени экспонирования
оборотной стороны пластины.
1. Вырезается пластина форматом около 20 х 48 см и укладывается
фотополимеризующимся слоем вниз на пневматический стол секции
экспонирования. Переднюю обработанную сторону легко
распознать, попробовав на уголке пластины, какая пленка
отделяется - это всегда защитная пленка с передней стороны
(фотополимеризующегося слоя). Но при проведении этого этапа
защитная пленка остается на пластине. Вакуум при контрольном
экспонировании не требуется.
Также необходимо отметить такой момент: если от пневматического
стола не должно быть отражения, то при предварительном и
основном экспонировании нужно создать соответствующий фон,
например, подложить черный картон или красную пленку.
2. Оборотная сторона этой пластины перед началом экспонирования
расчерчивается на 8 - 10 ступеней определенной длины. Эти ступени
поочередно закрываются светонепроницаемыми пластинами также
определенного размера, т.е. величины ступеней и пластин должны
соответствовать друг другу. Первое поле всегда остается не
закрытым, поэтапное экспонирование начинается со второго поля
4. Экспонируется вторая ступень (например, 10 сек. при толщине
пластины 2,84 мм), потом одна пластинка передвигается из одной
позиции в другую, так что открывается третье поле. Оно
экспонируется 20 сек. Потом пластинка передвигается из этой
позиции опять в другую и экспонирование длится 30 сек., так
получается серия экспонирований скачками по 10 сек. Обычно
экспонируется 8 ступеней.
5. Далее эта тестовая пластина вымывается в секции вымывания в
течение времени на 25 %, превышающего оптимальное. В
результате должна образоваться ступенчатая структура, при этом
не экспонированная ступенька должна вымыться до основания.
6. Для измерения глубины рельефа пластина сохнет при 60 - 65 С
горячим воздухом в секции сушки 10 – 15 минут.
5. И далее по аналогии с тестом на определение оптимального
времени вымывания, в соответствии с необходимой глубиной
рельефа, определяется оптимальное время экспонирования
оборотной стороны.
Из выше изложенного можно установить взаимосвязь между
временем экспонирования оборотной стороны, вымывания и
глубиной рельефа:
- длительное экспонирование оборотной стороны и короткое
вымывание - малый рельеф;
- короткое экспонирование оборотной стороны и длительное
вымывание - глубокий рельеф.
Время предварительного экспонирования оборотной стороны и
вымывания должно быть согласованно таким образом, чтобы
вымывание достигло заполимеризованного основания.
Также эта операция определяет воспроизведение мелких
элементов и тонкого растра (1 – 3 %), а также величину адгезии
между фотополимерным слоем и полиэфирной подложкой.
Также как и все остальные времена операций, оптимальное время
экспонирования оборотной стороны необходимо корректировать, изза снижения чувствительности пластин в процессе хранения,
уменьшения мощности ламп и износа различных частей формного
оборудования.
III. После определения оптимальных параметров вымывания и
экспонирования оборотной стороны определяется время основного
экспонирования. Опять же операция совершается ступенчато:
1. Для контрольного основного экспонирования вырезается пластина
в формате 20 х 48 см.
2. Эта необработанная пластина в течении заранее определенного
времени предварительного экспонирования (см. выше)
экспонируется по всей поверхности с оборотной стороны.
3. Потом она переворачивается (фотополимеризующимся слоем
вверх) и удаляется защитная пленка. Специальный тестовый негатив
(предоставляется техническим представителем) укладывается на
пластину матированной эмульсионной стороной. Края пластины,
при этом закрываются профилированными полосками пленки, чтобы
обеспечить безупречный вакуум и избежать прилипания вакуумной
пленки к обрезанным краям пластины. Потом включается
вакуумный насос и вакуумная пленка с равномерной тягой
накатывается на пластину. Для того, чтобы быстро удалить
попавший воздух рекомендуется протирать вакуумную пленку
резиновым роликом или антистатическим полотном. При этом,
могут быть видны попавшие пылинки, которые обязательно нужно
удалить с прозрачных участков негатива во избежание дефектов при
экспонировании. Оптимальное давление вакуума 0,76 БАР.
7. Правильное время основного экспонирования, как и
экспонирования с обратной стороны, определяется также как и в
предыдущих случаях поэтапно. Негатив содержит одинаковые
поля с определенными, контролирующими процесс, элементами:
растровые квадраты с различными плотностями растровых точек,
отдельно стоящие линии и точки, текст различной величины. Все
параметры тестовых элементов указаны на тестовом фирменном
негативе. Эти поля засвечиваются различным временем,
например первое - 5 минут, второе – 10 минут, третье – 15 минут
и т. д.
Здесь указано лишь ориентировочное время. Оно уменьшается
или увеличивается в зависимости от типа пластины. Время
экспонирования зависит от характера изображения, а также от
конструкции и технического состояния секции экспонирования.
Имеет значение и тип люминисцентных ламп. При длительной
работе снижается мощность люминисцентных ламп и ухудшается
светопроницаемость вакуумной пленки. В обоих случаях
требуется увеличение времени экспонирования. Вследствие этого
и при использовании других партий пластин время от времени
нужно проводить контрольное экспонирование.
8. Экспонированная пластина вымывается (при заранее
определенном
оптимальном
времени)
и
сушится
непродолжительное время. Правильное время экспонирования
сказывается на различном формировании деталей рельефа.
Ступени со слишком коротким экспонированием дают размытые
растровые поля и волнистые линии, а также не воспроизводятся
отдельные наиболее мелкие элементы. При переэкспонировании
затягивается выворотка на плашке, края точек становятся более
пологими, что ведет к слишком частому забиванию пробелов
краской в процессе печати; а также к снижению градационной
характеристики в тенях на оттиске.
При недостаточном вакууме какие-либо элементы могут не
воспроизводиться, либо быть размытыми, также могут возникать
пятна на поверхности печатающих элементов. Пятна, также как и
выделяющийся конденсат (жидкость), могут быть обусловлены
нарушенными условиями определенных пластин.
После проведения всех выше указанных тестов, и в соответствии с
инструкцией, можно приступать к изготовлению тиражных
печатных форм.
Для определенных пластин определенная рекомендуемая глубина
рельефа.
Контроль состояния УФ ламп.
При необходимости можно определять мощность УФ ламп
диапазона А и С при помощи UV метра. Изначальная мощность
ламп указывается в их технической характеристике. Рекомендуемое
значение мощности ламп – 15 – 20 мВт/см2.
Какие-либо проблемы возникают при неравномерной засветке
(неравномерной
мощности
УФ-ламп),
это
приводит
к
невоспроизведению каких-либо элементов или наоборот, к их
переэкспонированию.
При первом включении ламп, они выходят на стабильный режим
после 2 – 3 часов предварительной работы.
Среднее время жизни УФ ламп любого производителя 500 - 600
часов. Это может контролироваться либо при помощи программного
обеспечения секции экспонирования, либо в ручную. После этого
лампы подлежат обязательной замене.
ЦИФРОВОЙ СПОСОБ (LAMS) ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФЛЕКСО ФОРМ
МЕТОДОМ ЛАЗЕРНОГО МАСКИРОВАНИЯ.
В случае изготовления цифровых C-T-P форм технология
полностью идентична, за исключением того, что после
экспонирования оборота происходит лазерное экспонирование
пластины со стороны черного масочного слоя на соответствующем
лазерном устройстве в течение определенного времени и при
определенной мощности лазера. При этом в процессе основного
экспонирования вакуум не требуется и оно уже производится без
негатива.
При этом подходит любое лазерное устройство, присутствующее
на рынке.
Технология:
1. Обратное экспонирование
2. Лазерное маскирование (CTP)
3. Главное экспонирование
4. Вымывание
5. Сушка
7. UV-C (финишинг)
9. UV-А (дополнительное экспонирование)