РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ «МИФИ» МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ МОСКОВСКИЙ АВИАЦИОННЫЙ ИНСТИТУТ ЯРОСЛАВСКИЙ ФИЛИАЛ ФИЗИКО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ИНСТИТУТА РАН ИНСТИТУТ ПРОБЛЕМ ТЕХНОЛОГИИ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ И ОСОБОЧИСТЫХ МАТЕРИАЛОВ ПРОГРАММА XXII МЕЖДУНАРОДНОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ИОНОВ С ПОВЕРХНОСТЬЮ (ВИП-2015) 20 – 24 августа 2015 г. Москва 2015 Конференция проводится при финансовой поддержке: Российского фонда фундаментальных исследований Издательства «Elsevier» Национального исследовательского ядерного университета «МИФИ» Организаторы Российская академия наук (РАН) Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» Московский государственный университет Санкт-Петербургский политехнический университет Московский авиационный институт Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов РАН 2 ОРГАНИЗАЦИОННЫЙ КОМИТЕТ Ю.А.Рыжов М.Н.Стриханов В.Е.Юрасова А.И.Титов В.А.Курнаев А.Ф.Вяткин Е.Д.Маренков – – – – – – – председатель, академик РАН, МАИ сопредседатель, НИЯУ МИФИ зам. председателя, МГУ зам. председателя, СПбГПУ зам. председателя, НИЯУ МИФИ зам. председателя, ИПТМ РАН ученый секретарь, НИЯУ МИФИ Члены оргкомитета: В.И.Бачурин Л.Б.Беграмбеков А.М.Борисов Ю.М.Гаспарян Е.Ю.Зыкова В.А.Иванов П.А.Карасев Л.М.Коврижных Д.С.Коллигон Г.В.Корнич А.Н.Петровский А.А.Писарев А.А.Семенов И.И.Шкарбан – ЯФТИ – НИЯУ МИФИ – МАИ – НИЯУ МИФИ – МГУ – ИОФ РАН – СПбГПУ – ИОФ РАН – Университет Хадерсфильд – ЗНТУ – НИЯУ МИФИ – НИЯУ МИФИ – МАИ – МАИ 3 ПРОГРАММНЫЙ КОМИТЕТ В.Е.Юрасова – Председатель МГУ, Москва, Россия Члены программного комитета: А.Г.Борисов В.Т.Грицына С.Жанг С.О.Кучеев Ю.В.Мартыненко Е.С.Машкова А.Н.Михайлов T.Мишели А.А.Писарев В.Н.Попок Д.И.Тетельбаум – Университет Париж-Юг, Франция – НУ, Харьков, Украина – Университет, Наньянг, Сингапур – ЛЛНЛ, Ливермор, США – НИЦ «Курчатовский ин-т», Москва, Россия – НИИЯФ МГУ, Москва, Россия – ННГУ, Нижний Новгород, Россия – Университет, Кёльн, Германия – НИЯУ МИФИ – Университет, Ольборг, Дания – ННГУ, Нижний Новгород, Россия МЕЖДУНАРОДНЫЙ СОВЕТ А.Ф.Александров (Россия), А.И.Бажин (Украина), И. Бургдорфер(Австрия), Р. Вэбб (Великобритания), Д. Вильямс (Австралия), Х. Винтер (Германия), Ф. Джурабекова (Финляндия), В. Есаулов (Франция), П. Зигмунд (Дания), Ф.Ф.Комаров (Беларусь), У.Х.Расулев (Узбекистан), А.И. Титов (Россия), Р. Хукстра (Нидерланды), Я.Ямазаки (Япония). 4 НАУЧНЫЕ СЕКЦИИ: 1. Распыление, структура поверхности, десорбция. 2. Рассеяние и проникновение ионов. 3. Эмиссия ионов, электронов, фотонов и рентгеновского излучения при ионной бомбардировке. 4. Имплантация ионов и модификация поверхности. 5. Ионно-индуцированные процессы в тонких пленках и наноструктурах. 6. Взаимодействие плазмы с поверхностью – физика и технология. Все устные доклады будут проходить в актовом зале с 20 по 24 августа с 900 до 1800. На приглашенные доклады предоставляется по 25 минут и по 5 минут на дискуссию, на секционные – по 10 минут и по 5 минут на дискуссию. С 1800 до 2000 будет проводиться обсуждение стендовых докладов. Стендовые доклады должны размещаться авторами (на стендах размером 60 см 80 см) вечером, накануне работы соответствующих стендовых секций. На стендах будут указаны номера, соответствующие номерам докладов в данной программе. Дни работы стендовых секций: 20 августа – секции 1, 2 и 3; 21 августа – секция 4 и 5; 22 августа – секции 6. 830-900 – завтрак, 1045-1100 – кофе, 1300-1400 – обед, 1600-1615 – чай, 2000-2030 – ужин. 5 20 августа, четверг ПЛЕНАРНОЕ ЗАСЕДАНИЕ Председатели: Ю.Рыжов, В.Курнаев 830-1000 РЕГИСТРАЦИЯ УЧАСТНИКОВ 1000-1010 ОТКРЫТИЕ КОНФЕРЕНЦИИ 1015–1040 Friedrich Aumayr (Vienna University of Technology, Austria) Interaction of slow highly charged ions with ultrathin carbon nanomembranes and graphene. 1045-1110 Arnaud Delcorte (Universite' Catholique de Louvain, Belgium) Fundamentals of soft matter desorption, molecular analysis and depthprofiling using massive keV clusters. 1115-1130 ПЕРЕРЫВ, кофе 1130-1155 Kenji Kimura (Kyoto University, Japan) Temperature measurement of thermal spike using desorption of nanoparticles. 1200-1125 Thomas Michely (University of Cologne, Germany) New phenoma in 2D-layer irradiation with low energy ions. 1230-1255 Alexander Pisarev (National Research Nuclear University, Russia) Technological applications of plasma surface interactions. 1300-1310 Фотографирование участников конференции 1315-1400 ПЕРЕРЫВ, обед 6 ПРИГЛАШЕННЫЕ ЛЕКЦИИ И УСТНЫЕ СООБЩЕНИЯ 20 августа, четверг Секция №1. Распыление, структура поверхности, десорбция Председатели: Л.Беграмбеков, Ю.Гаспарян 1400-1425 Vladimir Popok (Aalborg University, Denmark) Low-energy interaction of metal cluster ions with surfaces. 1430-1455 Gregor Hlawacek (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany) High resolution surface patterning with the Helium Ion Microscope. 1500-1525 Stefan Facsko (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany) Spontaneous pattern formation on ion irradiated semiconductor surfaces. 1530-1555 Christina Trautmann (GSI Helmholz Center, Germany) Sputtering with heavy ions in the electronic stopping regime. 1600-1615 ПЕРЕРЫВ, чай 1615-1640 Lothar Bischoff (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany) Surface modification with heavy mono- and polyatomic ions. 1645-1710 Jean-Mark Layet (University of Aix-Marseille, France) H-production by surface ionization on carbon materials in H2 plasma. 1715-1725 H.H.Brongersma, V.S.Chernysh, P.Brüner, T.Grehl. Surface composition of ion bombarded alloys. 1730-1740 D.V.Shyrokorad, G.V.Kornich, S.G. Buga. Molecular dynamics simulation of bimetal atomic clusters under low energy Ar ion bombardment. 1745-1755 A.A.Eksaeva, E.D.Marenkov, D.Borodin, A.Kirshner, M.Laenger, V.A.Kurnaev, A. Kreter. ERO-PSI code for numerical simulation of experiments on tungsten sputtering in linear plasma device PSI-2. 1800-2000 Стендовые доклады (секции 1, 2 и 3) 2000-2030 Ужин 7 21 августа, пятница Секция №2. Рассеяние и проникновение ионов Председатели: Г.Корнич, В.Бачурин 900-925 930-955 Stefan Nagele (Vienna University of Technology, Austria) Attosecond chronoscopy of photoemission. Srdjan Petrović (Vinča Institute of Nuclear Sciences, Serbia) Classical and quantum rainbow channeling of charged particles in very thin silicon crystals and carbon nanotubes. 1000-1025 Franciszek Krok (Jagiellonian University, Poland) Pillars formation on compound semiconductor surfaces under focused and broad ion beam irradiation. 1030-1040 Dong-Hai Zhang, Jun-Sheng Li, S. Kodaira and N. Yasuda. Projectile fragment emission in the fragmentation of silicon on carbon and polyethylene targets at 684 A MeV. 1045-1100 ПЕРЕРЫВ, кофе 1100-1125 David Tetelbaum (Lobachevsky State University of Nizhnii Novgorod, Russia) Surface-oxide-related long-range effect under ion and light irradiation of solids. 1130-1140 Ю.А.Белкова, Н.В.Новиков, Я.А.Теплова. Равновесная толщина углерода при взаимодействии с пучками азота и неона. 1145-1155 П.Ю.Бабенко, А.Н.Зиновьев, А.П.Шергин. Фокусировка при рассеянии частиц на поверхности. 1200-1210 В.С.Бронский, С.Н.Шилобреева, В.И.Шематович, А.В.Хохлов, S.Barabash, M.Wieser. Моделирование распыления и рассеяния льда под воздействием ионов H+,O+ для условий поверхности Луны и спутников Юпитера. 1215-1225 А.М.Ионов, Р.Н.Можчиль, А.Ф.Редькин, С.Г.Протасова, Н.С.Воробьёва. Влияние ионной бомбардировки на электронную структуру и валентные состояния урана в кислородосодержащих соединениях. 1230-1240 С.А.Рябцев, Ю.М. Гаспарян, М.С. Зибров, А.А. Писарев. Термодесорбция дейтерия из радиационных дефектов в вольфраме. 1245-1255 G. Filippov. Passage of particle through a cylindrical structure. 1300-1400 ПЕРЕРЫВ, обед 8 21 августа, пятница Секция №3. Эмиссия ионов, электронов, фотонов и рентгеновского излучения при ионной бомбардировке Председатели: В.Попок, С.Крашенинников 1400-1425 Vladimir Palitsin (University of Surrey, UK) Ambient Pressure MeV Secondary Ion Mass Spectrometry. 1430-1455 Philippe Roncin (Université Paris-Sud, France) Grazing Incidence Fast Atom Diffraction (GIFAD) and Molecular Beam Epitaxy. 1500-1525 Eli Kolodney (Israel Institute of Technology, Israel) Velocity correlated cluster emission: a new surface sputtering mechanism by a large polyatomic projectile. 1530-1555 Toshio Seki (Kyoto University, Japan) Imaging mass spectrometry with MeV-energy heavy ion beams. 1600-1615 ПЕРЕРЫВ, чай 1615-1640 Paolo Milani (University of Milano, Italy) Supersonic cluster beam implantation in polymers: a novel tool for stretchable electronics and optics. 1645-1710 Ahmed Hassanein and HEIGHTS Team (Purdue University, USA) Plasma-Surface Interactions during normal and abnormal Tokamak operation. 1715-1725 В.В.Хвостов, Е.Ю.Зыкова. Неупругие процессы при взаимодействии ионов с поверхностью ZrO2. 1730-1740 M.V.Sorokin, A.Dauletbekova, K.Schwartz, M.Baizhumanov, A.Alkilbekov, M.Zdorovets. Energy loss effect on color center creation in lithium fluoride crystals. 1745-1755 Yu.V.Kapitonov, P.Yu.Shapochkin, Yu.V.Petrov, V.A.Lovcjus, S.A.Eliseev, Yu.P.Efimov, V.V.Petrov and V.V.Ovsyankin. InGaAs/GaAs quantum well modification by focused ion beam. 1800-1810 Д.Н.Макаров, В.И.Матвеев. Масс-спектры кластеров при ионном распылении металла. 1815-2000 Стендовые доклады (секции 4 и 5) 2000-2030 Ужин 9 22 августа, суббота Секция №4. Имплантация ионов и модификация поверхности Председатели: А.Титов, А.Азаров 900-925 Kai Nordlund (Helsinki University, Finland) Ion irradiation of Si, GaN and Au nanowires: order-of-magnitude enhancements of damage production and sputtering. 930-955 Vladimir Popov (Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Russia) Formation, properties and applications of NV-centers in ion-implanted diamond. 1000-1025 Igor Kossyi (Prokhorov General Physics Institute of the RAS, Russia) Explosive emission phenomena on the plasma-metal interface. Physics and applications. 1100-1115 ПЕРЕРЫВ, кофе 1115-1140 Alexander Azarov (University of Oslo, Norway) Diffusion and trapping of Zn vacancies and interstitials in ion implanted ZnO. 1145-1210 Johan Malherbe (University of Pretoria, South Africa) Some ion bombardment effects in SiC. 1215-1240 Thomas Greber (University of Zurich, Switzerland) Low energy ion implantation beneath 2D materials like boron nitride or graphene: Nanotents and Can opener effect. 1245-1255 C. Bundesmann, R. Feder, H. Neumann. The ion beam sputter deposition process of Ag. 1300-1400 ПЕРЕРЫВ, обед 10 22 августа, суббота Секция №4. Имплантация ионов и модификация поверхности Председатели: В.Попов, З.Инсепов 1400-1425 Vjacheslav Ivanov (Prokhorov General Physics Institute of the RAS, Russia) Microplasma discharge on a metal surface covered with a dielectric film: Experiment, theory, and applications. 1430-1455 Zinetula Insepov (Purdue University, USA) Radiation modification of graphene with gas cluster ion beams. 1500-1525 Ivan Santos (University of Valladolid, Spain) Multiscale defect modeling: from fundamental properties to macroscopic effects 1530-1540 V.V.Privezentsev, V.S.Kulikauskas, V.V.Zatekin, A.V.Goryachev, A.A.Batrakov. Nanoparticle formation in Zn+ ion hot implanted Si. 1545-1555 Nana Pradhan, S.K.Dubey. Silicon ion irradiation into manganese implanted gallium nitride DMS. 1600-1615 ПЕРЕРЫВ кофе 1615-1625 A.V.Naumkin, A.Yu.Pereyaslavtsev. Ion-induced auger electron spectroscopy of some Al-Mg alloys. 1630-1640 P.A.Karaseov, A.I.Titov, K.V.Karabeshkin, M.W.Ullah, A.Kuronen, F.Djurabekova, K.Nordlund. Experimental study and MD simulation of damage formation in GaN under atomic and molecular ion irradiation. 1645-1655 D.Sinelnikov, V.Kurnaev, D.Kolodko, N.Solovev. Tungsten nano-fuzz surface degradation under ion beam. 1700-1900 Стендовые доклады (секция 6) 2000-2200 Ужин, банкет 11 23 августа, воскресенье Секция №5. Ионно-индуцированные процессы в тонких пленках и наноструктурах Председатели: А.Писарев, А.Борисов 900-925 Xiao-Tao Hao (Shandong University, China) Hydrogenated oxide semiconductor films by sputtering. 930–955 Mike Russell (University of Pretoria, South Africa) Non-linear transport of energy in thin films and surface interactions. 1000-1025 Iva Bogdanović Radović (Rudjer Bošković Institute, Croatia) Formation and tailoring of metal and semiconductor quantum dots in amorphous matrices by MeV ions. 1030-1040 Brandon Holybee (University of Illinois at Urbana-Champaign, USA) Compositional and structural evolution of self-organized nanostructures during early stage ion irradiation of GaSb. 1045-1100 1100-1110 ПЕРЕРЫВ, чай O.V.Ogorodnikova. Migration, trapping and release of deuterium from tungsten in the presence of high density of defects: theory and experiment. 1115-1125 Н.Н.Андрианова, А.М.Борисов, В.А.Казаков, Е.С.Машкова, Ю.Н.Пальянов, В.П.Попов, Е.А.Питиримова, Р.Н.Ризаханов, С.К.Сигалаев. Графитизация поверхности алмаза при высокодозной ионной бомбардировке. 1130-1140 C.В.Константинов, Ф.Ф.Комаров, А.Д.Погребняк. Влияние ионного облучения на структуру высокоэнтропийных покрытий (Ti, Hf, Zr, V, Nb)N. 1145-1155 N.N.Cherenda, V.V.Uglov, A.K.Kuleshov, V.M.Astashynski, A.M.Kuzmitski. Alloying and nitriding steels by compression plasma flows treatment. 1200-1210 D. Kogut, K. Achkasov, J.M. Layet, A. Simonin, A. Gicquel, J.Achard, G.Cartry. Negative-ion production on the surface of diamond materials in low pressure hydrogen plasmas. 1215-1225 K.Gutorov, I.Vizgalov, F.Podolyako, I.Sorokin. Study of plasma interaction with fusion reactor materials at the linear simulator with a beam-plasma discharge. 1230-1240 R.A.Andrievski. The interface role in the nanostructured films behavior under ion irradiation. 1245-1255 А.В. Лубенченко, А.А. Батраков, А.Б. Паволоцкий, Д.А. Иванов, О.И. Лубенченко, И.В. Шуркаева. Модификация оксидных плёнок ниобия слаботочными ионными пучками. 1300-1400 ПЕРЕРЫВ, обед 1420 -1930 Экскурсии 2000 -2200 Ужин 12 24 августа, понедельник Секция №6. Взаимодействие плазмы с поверхностью – физика и технология Председатели: В.Иванов, В.Курнаев 900-925 Sergei Krasheninnikov (National Research Nuclear University, Russia) Future directions in edge plasma physics and plasma material interactions in fusion devices: some results from the FES community planning workshops 2015. 930–955 Pavel Strelkov (Prokhorov General Physics Institute of the RAS, Russia ) Generation and amplification of microwave radiation by the injection of strong relativistic electron beam in a plasma waveguide. 1000-1010 A.V.Rogov, Yu.V.Martinenko, Yu.V.Kapustin, N.E.Belova. Fabrication of fine-dispersed coatings at deposition with simultaneous sputtering. 1015-1025 S.Krat, Yu.Gasparyan, A.Pisarev, M.Mayer, G.de Saint-Aubin, I.Bykov, P.Coad, J. Likonen, W. van Renterghem, C.Ruset, A.Widdowson, JETEFDA contributors. Comparison of erosion and deposition in jet during carbon and ITER-like campaigns. 1030-1045 ПЕРЕРЫВ, кофе 1045-1055 A.Kuzmin, H.Zushi, I.Takagi, K.Hanada, Y.Oyama, S.Sharma, A.Rusinov, Y.Hirooka, H.Zhou, M.Kobayashi, M.Sakamoto, N.Youshida, K.Nakamura, A.Fujisawa, K.Matsuoka, H.Idei, Y.Nagashima, M.Hasegawa, T.Onchi, K.Mishra, S.Banerjee. Permeation probes for hydrogen retention measurements. 1100-1110 Yu.N.Devyatko, V.V.Novikov, O.V.Khomyakov, D.A.Chulkin. А model of radiation-induced densification of oxide nuclear fuel. 1115-1125 A.S.Kaplevsky, L.B.Begrambekov, O.A.Dvoychenkova, A.E.Evsin, A.M.Zakharov, P.A.Shigin. On the possibility of decreasing thermal desorption from titanium during ion irradiation. 1130-1230 Дискуссия 1235-1255 Заключение 1300-1400 Обед 1430 и позже Отъезд из Москвы 13 СТЕНДОВЫЕ ДОКЛАДЫ 20 августа, четверг Секция №1. Распыление, структура поверхности, десорбция 1. T.T.Thabethe, T.T.Hlatshwayo, J.B.Malherbe, E.G.Njoroge and T.G.Nyawo. The effect of thermal annealing in different atmosphere on Tungsten (W) deposited in 6H-SiC. 2. И.И.Бардышев, В.А.Котенев, А.Д.Мокрушин, А.Ю.Цивадзе. Взаимодействие потока позитронов с поверхностным зарядом на границе раздела металл-полимер. 3. С.Ф.Белых, А.Б.Толстогузов, А.А.Лозован. Модель эмиссии димеров, эмитированных из металла в режиме нелинейных каскадов столкновений. 4. V.N.Berzhansky, A.N.Shaposhnikov, A.R. Prokopov, A.V. Karavainikov, T.V.Mikhailova, V.I.Belotelov, N.E.Khokhlov, Yu.E.Vysokikh. The effect of the ion etching of sputtered Bi: YIG films on their surface morphology and magneto-optical properties. 5. И.Е.Бородкина, И.В.Цветков. Оценка распыления обращенных к плазме поверхностей с использованием модели распределения пристеночного падения потенциала с учетом вторичной электронной эмиссии в наклонном магнитном поле. 6. Н.В.Волков, Д.А.Сафонов. Высокодозное распыление и эрозия поверхности вольфрама под воздействием потоков ионов He и Ar с широким энергетическим спектром в условиях повышенных температур (100-500оС). 7. Е.В.Дуда, Г.В.Корнич. Моделирование динамики налетающего кластера Cu3 на поверхности Cu(100) с моноатомной ступенью. 8. O.А.Yermolenko, G.V.Kornich, S.G.Buga. Sputtering of metal clusters on hydrocarbon surfaces: a comparative molecular dynamics study. 9. А.Е.Иешкин, Ю.А.Ермаков, В.С.Черныш. распыленных кластерными ионами из металлов. Угловые распределения частиц, 10. G.V.Kornich. Simulation of sputtering of surface metal nanoclusters under low energy ion bombardment. 11. А.В.Лубенченко, А.А.Батраков, А.Б.Паволоцкий, С.Краузе, Д.А.Иванов, О.И.Лубенченко, И.В.Шуркаева. Распыление тонких пленок нитрида ниобия ионами аргона. 12. С.Е.Максимов, Н.Х.Джемилев, С.Ф.Коваленко, В.И.Тугушев, О.Ф.Тукфатуллин, Ш.Т.Хожиев. Средние константы скорости распада и энергии возбуждения кластеров металлов, распыленных ионами SF5+ и инертных газов. 13. В.И.Матвеев, С.Н.Капустин. Размеры кластеров при ионном распылении твердого тела с учетом процесса фрагментации. 14. К.Ф.Миннебаев, К.А.Толпин, В.Е.Юрасова. Анизотропия распыления монокристалла сапфира. 15. Б.Л.Оксенгендлер, С.Е.Максимов, распыления при бомбардировке (синергетический подход). Н.Ю.Тураев. Возможные механизмы полиатомными ионными пучками 16. В.Н.Самойлов, А.И.Мусин. Об особенностях распределений перефокусированных атомов, эмитированных с грани (001) Ni, по углам и энергии. 17. А.Н.Сутыгина, Н.Н.Никитенков, И.А.Шулепов, Е.Б.Кашкаров. Ионно-иммерсионная имплантация алюминия в титан. 14 Секция №2. Рассеяние и проникновение ионов 1. J.S.Li, D.H.Zhang, H.H.Ao, M.M.Tian, Z.Feng, Ya.Q.Sun, S.Kodaira, N.Yasuda. Fragmentation cross section of 800 A MeV silicon ions on polyethylene target. 2. A.Zugarramurdi, M.Debiossac, P.Lunca-Popa, A.Mayne, A.Momeni, A.G.Borisov, Z. Mu, P.Roncin, H. Khemliche. Atomic and topographic corrugations of graphene on 6H-SiC(0001) derived from Grazing Incidence Fast Atom Diffraction. 3. П.Ю.Бабенко, А.Н.Зиновьев, А.П.Шергин. Многократное рассеяние и неупругие потери энергии при столкновениях ионов с поверхностью. 4. И.К.Гайнуллин. Трехмерные эффекты при резонансном электронном обмене между атомными частицами и наносистемами. 5. Д.Л.Загорский, В.В.Коротков, С.А.Бедин, Д.А.Парфёнов. Трековые различных типов для получения нанострутур методом темплатного синтеза. матрицы 6. А.Н.Зиновьев, Д.С.Мелузова. Определение потенциала из данных по обратному резерфордовскому рассеянию и электронная экранировка в реакциях ядерного синтеза. 7. А.В.Иванов. Рассеяние заряженных частиц на цепочке атомов углерода. 8. В.П.Кощеев, Ю.Н.Штанов, Д.А.Моргун, Т.А.Панина. Атомный, электронный и ядерный коэффициенты диффузии каналированных частиц. 9. И.В.Лысова, А.Н.Михайлов. Энергетические характеристики каналирования атомарного пучка в нанотрубках. 10. А.Д.Мокрушин, Е.В.Егоров, В.А.Смирнов. Анализ состава окисленных и восстановленных пленок оксида графена с помощью обратно рассеянного пучка ионов. 11. А.Н.Пустовит. Глубина выхода распыленных частиц при наклонном падении первичного пучка. 12. Г.М.Филиппов, В.А.Александров. Расчет вероятности образования пор при падении многозарядного иона на ультратонкую пленку. Секция №3.Эмиссия ионов, электронов, фотонов и рентгеновского излучения при ионной бомбардировке 1. Б.Г.Атабаев, Р.Джаббарганов, Б.А.Зияев. Изучение эмиссии отрицательно-ионных кластеров 3C-SiC при бомбардировке ионами Cs+. 2. Б.Г.Атабаев, Р.Джаббарганов, Б.А.Зияев. Эффект димеризации атомов селена и цинка на поверхности твердого раствора (Ge2)1-x(ZnSe)x. 3. В.П. Афанасьев, П.С. Капля. Инвариантное погружение. Точное и малоугловое решения для функций, определяющих сигналы электронной спектроскопии. 4. В.П.Афанасьев, П.С.Капля, А.С.Грязев, Д.С. Ефременко, Ю.О. Андреева. Восстановление дифференциальных сечений неупругого рассеяния на основе спектров характеристических потерь энергии электронов, спектров рентгеновской фотоэлектронной эмиссии и оже-спектров. 5. В.П.Афанасьев, П.С.Капля, А.С.Грязев, фотоэлектронной эмиссии Be и W. Н.В.Ляпунов. Cпектры рентгеновской 6. И.А.Афанасьева, В.В.Бобков, В.В.Грицына, И.С.Зеленина, И.И.Оксенюк, Д.А.Рыжов, Д.И.Шевченко. О механизмах выбивания возбужденных атомов иттрия при ионной бомбардировке иттрия и алюмо-иттриевых гранатов. 15 7. П.А.Борисовский, Е.Н.Моос, А.И.Руденко, Ж.П.Русакова. кристаллического состояния квазидвумерных слоев графита. Особенности 8. А.Ф.Владимиров. Моделирование влияния внешнего электрического поля на зарядовое и энергетическое состояние атома, отлетающего от поверхности твёрдого тела. 9. С.С.Волков, Т.И.Китаева. Аналитические особенности метода ВИМС при исследовании состава кварцевых концентратов. 10. О.Л.Голубев, Н.М.Блашенков. О влиянии массы изотопа испаряемого иона на процесс полевого испарения ионов при высоких температурах эмиттера. 11. И.А.Зельцер, Е.Н.Моос, О.В.Савушкин. Энергодисперсионные зависимости истинновторичных электронов имплантированного кремния. 12. S.Parviainen, F.Djurabekova, S.P.Fitzgerald, A.Ruzibaev and K.Nordlund. Atom Probe Tomography by atomistic simulations. 13. О.А.Коваль, И.В.Визгалов. Применение автоколебательного пучково-плазменного разряда для имплантации ионов в пылевые частицы. 14. В.А.Литвинов, Д.И.Шевченко, И.И.Оксенюк, В.В.Бобков. Исследование поверхности сплава накопителя водорода на основе магния методом ВИМС. 15. К.Ф.Миннебаев, А.А.Хайдаров, В.Е.Юрасова. Температурная зависимость эмиссии вторичных ионов из монокристалла меди. 16. С.Н.Морозов, У.Х.Расулев. Вторичная ионная эмиссия монокристалла GaAs при бомбардировке кластерными ионами Bim+. 17. С.Н.Морозов. Вторичная ионная, ионно-электронная и ионно-фотонная эмиссия при бомбардировке иттрия кластерными ионами Bim+. 18. Н.А.Нурматов, Ё.С.Эргашов, Н.Талипов, Х.М.Сатторов, И.Х.Хамиджонов. Исследование изменения электронной структуры сплава на основе Nb-Zr при переходе в интерметаллические соединение. 19. Э.И.Рау, А.А.Татаринцев, В.В.Хвостов, В.Е.Юрасова. Вторично-электронные, эмиссионные и зарядовые характеристики ионно-облученного сапфира. 20. A.A.Tishchenko, D.Yu.Sergeeva and M.N.Strikhanov. Properties of polarization radiation from charged particles beam brushing surface of a solid. 21. Ю.И.Тюрин, С.Х.Шигалугов, В.Д.Хоружий, В.П.Гранкин, А.С.Долгов, Ван Яомин. Люминесценция виллемита Zn2SiO4–Mn в атомарных пучках О, Н, О+Н. 21 августа, пятница Секция №4. Имплантация ионов и модификация поверхности 1. Н.Д.Абросимова, Д.Ю.Зудин. Влияние режимов имплантации геометрические параметры структур «кремний на изоляторе». водорода на 2. A.V.Alekseev, G.G.Gumarov, V.A.Shustov, V.Yu.Petukhov, V.I.Nuzdin. Investigation of magnetic uniaxial anisotropy at ion-beam synthesis of iron silicides. 3. D. Bachiller-Perea, L. Thomé, A. Debelle. Damage processes in MgO irradiated with 1.2 MeV Auions and effect of irradiation temperature. 4. В.И.Бачурин, С.А.Кривелевич. Выбор параметров порядка при моделировании процессов фазообразования в двойных металлических системах в условиях ионной бомбардировки. 16 5. S.Biira, J.B.Malherbe, P.Crouse, J. van der Walt. The impact of substrate temperature on the surface morphology and layer microstructure of ion-bombarded CVD polycrystalline zirconium carbide thin films. 6. В.В.Бобков, Л.П.Тищенко, Р.И. Старовойтов, Ю.И. Ковтуненко, Л.А. Гамаюнова. Имплантация ионов дейтерия и гелия в конденсированные вольфрамовые покрытия при последовательном облучении. 7. Е.А.Боброва, А.В.Леонов, В.Н.Мордкович, А.П.Бибилашвили, Н.Д.Долидзе, К.Д.Щербачев. Влияние химический природы имплантируемых ионов на радиационное дефектообразование в Si. 8. Yu.V.Borisyuk, N.M.Oreshnikova, M.A.Berdnikova, A.V.Tumarkin, G.V.Khodachenko, A.A.Pisarev. Plasma nitriding of titanium alloy Ti5Al4V2Mo. 9. А.И.Виленский, К.Г.Саббатовский. полиэтилентерефталате. Латентные треки тяжелых ионов в 10. Р.А.Валиков, А.С.Яшин, Б.А.Калин, Н.В.Волков. Особенности модифицирования цилиндрической поверхности под воздействием радиального пучка ионов аргона с энергией до 5 кэВ. 11. В.В.Воробьев, Ю.Н. Осин, В.Ф. Валеев, В.И. Нуждин, А.Л. Степанов. Структурные изменения и порообразование в кремнии при имплантации ионами серебра. 12. Д.В.Гусейнов, С.А.Денисов, А.В.Нежданов, И.Н.Антонов, П.А.Юнин, В.Н.Трушин, Д.О. Филатов, М.В.Степихова, В.Г.Шенгуров. Имплантируемые ионами P+слои германия светоизлучающих приборов. Д.И.Тетельбаум, З.Ф.Красильник, на Si(100) для 13. В.И.Зиненко, Ю.А.Агафонов, В.В.Сарайкин. Перераспределение атомов железа, имплантированных в кремний, вызванное облучением ионами гелия. 14. А.Е.Иешкин, В.С.Черныш, Ю.А.Ермаков, А.В.Молчанов, А.Е.Серебряков, М.В.Чиркин. Прецизионное полирование поверхности ситалла пучками газовых кластерных ионов. 15. Т.С.Кавецкий, Ю.Ю.Кухаж, Я.Борц, А.Л.Степанов. Наноиндентирование имплантированного ионами бора полиметилметакрилатав области проникновения инденторадо 1100 нм. 16. Т.С.Кавецкий, А.Л.Степанов. Спектроскопические исследования ионноиндуцированных процессов в полиметилметакрилате при низкоэнергетической имплантации ионами бора. 17. К.В.Карабешкин, П.А.Карасёв, А.И.Титов. Структурные нарушения в кремнии при мплантации ионов PFn+: част II. 18. В.С.Ковивчак, Т.В.Панова. Модификация мощным ионным пучком. поликристаллических оксидов металлов 19. Ф.Ф.Комаров, О.В.Мильчанин, В.А.Скуратов, М.А.Моховиков, A.Janse van Vuuren, J.N.Neethling, E.Wendler, Л.А.Власукова, И.Н.Пархоменко, В.Н.Ювченко. Ионно-лучевое формирование и трековая модификация нанокластеров InAs в кремнии и диоксиде кремния. 20. С.А.Кривелевич, В.И.Бачурин. Волны переброса и ионно-индуцированные фазовые переходы в двойных металлических системах. 21. Ф.Н.Михайлов. Оптимизация параметров при самосборке ЛЦУ методом молекулярной динамики в силовом поле «ReaxFF». 22. С.Ж.Ниматов, Д.С.Руми. Исследование аморфизации-рекристаллизации Si(111) при низкоэнергетической ионной бомбардировке. 17 поверхности 23. O.S.Odutemowo, J.B.Malherbe, C.C.Theron, E.G.Njoroge, E.Wendler. In-situ RBS studies of strontium implanted glassy carbon. 24. Б.Л.Оксенгендлер, Ф.Г.Джурабекова, С.Е.Максимов. распыления нанокристаллов и зона неустойчивости дефектов. Особенности ионного 25. В.В.Поплавский, А.В.Дорожко, В.Г.Матыс. Ионно-лучевое формирование электрокатализаторов для топливных элементов с полимерным мембранным электролитом. 26. В.С.Просолович, Д.И.Бринкевич, В.Б.Оджаев, А.И.Простомолотов, Ю.Н.Янковский. Ионно-индуцированные процессы на поверхности диазохинонноволачного резиста. 27. V.I.Pryakhina, D.O.Alikin, I.S.Palitsin, S.A.Negashev and V.Ya.Shur. Influence of Ar+ ion irradiation on formation of domain structure in LiNbO3 during polarization reversal. 28. В.И.Псарев, Л.А.Пархоменко. Растворение и нуклеация дисперсных выделений в ионнооблученных сплавах. 29. А.В.Рогов, Ю.В.Капустин, Ю.В.Мартыненко. Уменьшение дефектности нанокристаллитных покрытий на поликристаллических подложках после ионного распыления с одновременным напылением. 30. М.К.Рузибаева, Б.Е.Умирзаков. Исследование профиля распределения имплантируемой примеси при высоких дозах облучения. 31. А.С.Рысбаев, Ж.Б.Хужаниязов, И.Р.Бекпулатов, Р.Ф.Файзуллаев, Ш.А.Талипова. Термочувствительная структура, созданная имплантацией ионов Р+ и В+ в Si(111). 32. А.С.Рысбаев, Ж.Б.Хужаниязов, И.Р.Бекпулатов, А.М.Рахимов. дополнительной очистки поверхности монокристаллов кремния. Способ 33. А.С.Рысбаев, Ж.Б.Хужаниязов, И.Р.Бекпулатов, Р.Ф.Файзуллаев. Влияние термического и лазерного отжига на поверхностные свойства и профили распределения атомов Р и В, имплантированных в Si(111). 34. A.A.Smirnov, S.I.Bozhko, A.M. Ionov, S.G.Protasova, S.V.Chekmazov, A.A.Kapustin. Sb (111): surface evolution under ion etching. 35. Б.Е.Умирзаков, С.Ж.Ниматов, Х.Х.Болтаев, Б.Д.Донаев. Исследование профиля распределения примесных атомов по глубине в многослойных системах на основе кремния. 36. Б.Ф.Фаррахов, Я.В.Фаттахов, М.Ф.Галяутдинов. Динамическая термометрия твердых тел на основе комбинации методов оптической дифракции и интерференции. 37. C.Herbig, E.H.Åhlgren, W.Jolie, C.Busse, J.Kotakoski, A.V.Krasheninnikov, T.Michely. Low energy ion irradiation of supported 2D layers and their annealing. 38. T.T.Hlatshwayo, J.B.Malherbe, N.G. van der Berg, R.J.Kuhudzai, E.Wendler. Diffusion of silver in bombardment-induced amorphous SiC. 39. И.П.Чернов, Е.В.Березнеева, Н.С.Пушилина, П.А.Белоглазова. Модифицирование циркониевого сплава импульсными пучками заряженных частиц. 40. В.В.Чирков, Г.Г.Гумаров, В.Ю.Петухов, В.Ф.Валеев, А.Е.Денисов. Магнитополяриметрические исследования ионно-синтезированных пленок силицидов кобальта. 41. А.А.Шемухин, А.В.Назаров, Ю.В.Балакшин, В.С.Черныш. Дефектообразование ирекристаллизация в пленках кремния на сапфире при облучении ионами кремния. 42. А.Г.Широкова, Е.А.Богданова, В.М.Скачков, Л.А.Пасечник, С.В.Борисов, Н.А.Сабирзянов. Создание биоактивных имплантатов различными методами. 18 43. K.D.Shcherbachev, E.A.Skryleva, D.A.Kiselev. Influence of a chemical activity of implanted ions on a structure of a damaged Si surface of SIMOX substrates. 44. K.B.Eidelman, N.Yu.Tabachkova, K.D.Shcherbachev, V.V.Privezentsev. Modification of ion-beam synthesized Zn nanoparticles in Si (001) by subsequent annealing. 45. Ё.С.Эргашов, Д.А.Ташмухамедова, Ф.Г.Джурабекова, Б.Е.Умирзаков. Влияние микронеровностей поверхности на состав и электронные свойства пленок CdTe/Mo (111). 46. М.Б.Юсупжанова, Д.А.Ташмухамедова, М.Т.Нормурадов, Б.Е.Умирзаков. Изучение процессов образования наноразмерных структур в пленках SiO2 при ионной бомбардировке. Секция №5. Ионно-индуцированные процессы в тонких пленках и наноструктурах 1. M.Yu.Barabanenkov, A.I.Il'in, V.T.Volkov, Yu.A.Agafonov, V.I.Zinenko, A.A.Podkopaev. Annealing stage modelling of low energy ion beam synthesis of submicrometer periodical silicon oxide pillars in silicon. 2. А.Л.Бондарева, Г.И.Змиевская. Стохастическое моделирование зарождения пор в тонком слое карбида кремния. 3. L.A.Vlasukova, F.F.Komarov, V.N.Yuvchenko, O.V.Mil’chanin,А.K. Dauletbekova, A.E.Al’zanova, A.T.Akilbekov. Etching of latent track in amorphous SiO2 and Si3N4: simulation and experiment. 4. Н.В.Волков, Т.В.Якуткина, И.В.Олейников, Н.В.Сысоева. Динамические закономерности ионного перемешивания в многослойных пленочных системах под воздействием пучков ионов с широким энергетическим спектром. 5. А.А.Дмитриевский, Д.Г.Гусева, В.М.Васюков, В.В.Коренков, А.В.Шуклинов. Уменьшение адгезии в структуре AlN/Si, индуцированное низкоинтенсивным бетаоблучением. 6. С.Б.Донаев, Э.Раббимов, А.К.Ташатов, Д.А.Ташмухамедова. трехкомпонентных нанопленок на поверхности GaAs при низкоэнергетическими ионами Na+ и Al+. Формирования бомбардировке 7. В.С.Ефимов, Ю.М.Гаспарян, А.А.Писарев, И.Б.Куприянов, Н.П.Порезанов. Исследование накопления дейтерия в бериллии при облучении мощными импульсными потоками плазмы. 8. А.Ф.Зацепин, Е.А.Бунтов, А.И.Слесарев. Эффекты ионизации в имплантированных структурах SiO2/Si при воздействии α-частиц высоких энергий. 9. Г.И.Змиевская, А.Л.Бондарева. вакансионно-газовыми дефектами. Повреждения тонкой пленки карбида кремния 10. Е.Б.Кашкаров, Н.Н.Никитенков, Ю.И.Тюрин, М.С.Сыртанов, Чжан Ле. Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана полученных методом плазменно-иммерсионной имплантации. 11. D.V.Kolodko, D.N.Sinelnikov, A.V.Kaziev, A.V.Tumarkin. Metal-ion Penning source for thin films deposition. 12. Д.С.Королев, А.Н.Михайлов, А.И.Белов, В.А.Сергеев, И.Н.Антонов, О.Н.Горшков, А.П.Касаткин, Д.И.Тетельбаум. Влияние ионного облучения на параметры резистивного переключения в МДМ-структурах на основе оксида кремния. 13. E.G.Njoroge, C. C. Theron, J.B.Malherbe, N.G. van der Berg and T.T.Hlatshwayo. Surface and interface effects of annealing Zr thin films on 6H-SiC in vacuum. 19 14. Р.В.Селюков, В.В.Наумов, И.И.Амиров. Изменения текстуры пленки платины при ионно-плазменной обработке. 15. Н.А.Смоланов. Комплексное исследование микрочастиц, осажденных из плазмы дугового разряда на стенках вакуумной камеры. 16. А.С.Сохацкий, Е.А.Корнеева, J.O’Connel, В.А.Скуратов, А.А. Никитина, J.Neethling. Влияние метода подготовки образцов стали на качество структурных исследований с помощью просвечивающей электронной микроскопии. 17. А.В.Степанов. Влияние упругих возмущений стенки углеродной нанотрубки на каналирование в ней медленных атомных частиц: расчет из первых принципов. 18. А.В.Степанов. Каналирование частиц в гетероструктурах из углеродных нанотрубок с дефектами. 19. С.В.Томилин, А.С.Яновский, В.Н.Бержанский, А.Н.Шапошников, О.А.Томилина. Ионно-полевые процессы в островковых металлических наноплёнках. 20. В.В.Углов, Г.Абади, Н.Т.Квасов, С.В.Злоцкий, И.А.Солодухин, В.И.Шиманский. Ионно-индуцированные процессы в тонкопленочных многослойных покрытиях на основе нитридов циркония и кремния, облученных ионами ксенона. 22 августа, суббота Секция №6. Взаимодействие плазмы с поверхностью – физика и технология 1. A.V.Filimonov, N.V.Andreeva, E.Y.Koroleva. Low temperature surface modification of potassium tantalate doped with lithium ions by means of piezoresponse force microscopy. 2. А.А.Айрапетов, Л.Б.Беграмбеков, Я.А.Садовский. Газификация и удаление перенапыленных углеродных слоёв из плазменных установок воздействием кислородноозоновой смесью. 3. И.И.Амиров, М.О.Изюмов, В.В.Наумов. Селективное низкоэнергетическое распыление пленок металлов в аргоновой с добавкой кислорода плотной плазме. 4. В.В.Андреев, Л.А.Васильева. Исследование диэлектрического барьерного разряда в ячейке с периодическим рядом металлических полос- электродов, расположенных в диэлектрике. 5. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. К вопросу о генерации плазменного потока вакуумным дуговым разрядом и осаждения покрытий. 6. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. К вопросу о структурных преобразованиях поверхности конструкционных материалов при воздействии вакуумной дугой. 7. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, Р.Б.Нагайбеков, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. Моделирование процессов усиления поля на микронеровностях катода дуговых разрядов в вакууме. 8. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, Р.Б.Нагайбеков, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. Особенности ионизации ионов катодном пятне вакуумного дугового разряда. 9. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. Роль электрического поля в процессе формирования катодного пятна вакуумной дуги. 10. В.Н.Арустамов, Х.Б.Ашуров, И.Х.Худайкулов, Б.Р.Кахрамонов. Формирование тонких пленок при осаждении их из плазмы вакуумного дугового разряда. 20 11. А.А.Барат, Д.Д.Григорян, В.В.Манухин. Методика рассчета энергетических спектров распыления слоисто-неоднородных конструкционных материалов, взаимодействующих с плазмой. 12. А.А.Батраков, А.В.Рыженков, О.С.Зилова, Г.В.Качалин, А.А.Бурмистров, А.П.Лепехов. Послойный анализ защитных слоев нитрида титана на основе спектроскопии тлеющего разряда. 13. Н.Н.Божко, В.П.Столяров, Ф.А.Доронин, В.Г.Назаров. Плазмохимическая обработка поверхности полимерных пленок. 14. G.G.Bondarenko, V.I.Kristya, M.R.Fisher. Modeling of the effect of field electron emission from the cathode with a thin dielectric film on the Townsend discharge ignition voltage in argon–mercury mixture. 15. А.М.Борисов, А.В.Виноградов, В.Г.Востриков, Б.Л.Крит, В.Б.Людин, М.Н.Полянский, С.В.Савушкина, Н.В.Ткаченко. Исследование оксидных покрытий на цирконии и циркониевом сплаве Э110, полученных при плазменном воздействии в электролитах. 16. Л.И.Брюквина, С.В.Липко. Влияние плазмы в фокусе фемтосекундных лазерных импульсов на морфологию поверхностного слоя щелочных фторидов. 17. A.G.Gorobchuk. Numerical investigation of silicon surface polymerization in CF4/H2 plasma. 18. Д.В.Гранкин, А.И.Бажин, В.П.Гранкин. Электронное возбуждение поверхности атомами из водородной плазмы при наличии УФ излучения. 19. А.Е.Евсин, Л.Б.Беграмбеков, А.А.Гордеев. Плазменные методы создания поверхностных слоев на цирконии, препятствующих проникновению водорода. 20. В.К.Егоров, Е.В.Егоров, М.С.Афанасьев. Рентгенофлуоресцентный анализ в условиях полного внешнего отражения при ионно-пучковом возбуждении. 21. M. Zibrov, Yu. Gasparyan, A. Shubina, and A. Pisarev. Determination of hydrogen binding energies with defects in metals from thermal desorption measurements with different heating rates. 22. С.П.Зимин, И.И.Амиров, Е.С.Горлачев, В.В.Наумов, E.Abramof, P.H.O.Rappl. Плазменное распыление пленок Pb1−xEuxTe при вариации состава и структуры. 23. С.В.Иванова, Л.Н.Лесневский, М.А.Ляховецкий, О.А.Наговицина. Структура и свойства поверхностных слоёв, формируемых методом микродугового оксидирования на циркониевом сплаве. 24. А.И.Камардин, Р.Х.Сайдахмедов, Г.А.Хамраева. Использование магнетронов с горячим катодом для нанесения декоративных покрытий. 25. Е.С.Киселева, Н.Н.Никитенков, В.С.Сыпченко. Исследование состава, оптический свойств покрытий на основе диоксида титана осажденных методом реактивного магнетронного распыления. 26. В.И.Кристя, Йе Наинг Тун. Расчет характеристик распыления катода с диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. 27. К.И.Круглов, В.К.Абгарян, Х.Леб. Численное моделирование нагрева элементов конструкции источников ионов с радиочастотным нагревом плазмы разряда. 28. E.Marenkov, S.Krasheninnikov. Ablation of high-Z material dust grains in edge plasmas. 29. E.Meshcheryakova, M.Zibrov, A.Kaziev, G.Khodachenko, A.Pisarev. Characterisation of plasma parameters of inductively-coupled plasma source and its application for nitriding of steels. 21 30. А.Б.Надирадзе, Р.Р.Рахматуллин, С.В.Урнов. Образование рельефа на поверхности боросиликатных стекол под действием ксеноновой плазмы при скользящих углах падения. 31. Л.С.Новиков, Е.Н.Воронина, В.Н.Черник, Е.А.Воробьева, А.В.Макунин, К.Б.Вернигоров, К.С.Яковлев, М.Ю. Яблокова. Эрозия полимерных нанокомпозитов на основе углеродных нанотрубок под действием кислородной плазмы. 32. Л.С.Новиков, Е.Н.Воронина, В.Н.Черник, Л.А.Жиляков. Изменение свойств полиимидных пленок при последовательном облучении протонами и кислородной плазмой. 33. Ф.С.Подоляко, И.А.Сорокин, К.М.Гуторов, И.В.Визгалов, Е.Г.Шустин. Формирование моноэнергетичного ионного потока из плазмы на диэлектрический образец. 34. A.S.Popkov, S.A.Krat, Yu.M.Gasparyan, A.A.Pisarev. Interaction of lithum-deuterium films with atmospheric gases. 35. A.A.Pshenov, A.A.Eksaeva, S.I.Krasheninnikov, E.D.Marenkov. Vapour shielding of solid targets exposed to high heat flux. 36. Т.Д.Раджабов, А.М.Назаров, С.В.Ковешников. Способы очистки поликристаллического кремния для солнечных элементов. 37. Т.Д.Раджабов, А.И.Камардин, А.А.Симонов, З.Т.Хакимов. Ионно-стимулированное осаждение многослойных металлических покрытий. 38. Б.К.Рахадилов, Т.Р.Туленбергенов, И.А.Соколов, взаимодействия стационарной плазмы с вольфрамом. Д.А.Гановичев. Исследование 39. Р.И.Романов, С.Н.Григорьев, В.Ю.Фоминский, М.А.Волосова. Регулирование параметров ионной бомбардировки для получения твердосмазочных покрытий с улучшенными свойствами. 40. А.В.Савченков, К.Л.Губский, А.П.Кузнецов, Е.И.Никитина, С.Н.Тугаринов, О.И.Бужинский. Система лазерной очистки поверхности зеркал оптических диагностик на ИТЭР. 41. I.A.Sorokin, I.V.Vizgalov, O.A.Bidlevich. Analysis of ion fluxes in linear plasma devices. 42. М.А. Степович, М.Н. Шипко, В.Г. Костишин, В.В. Коровушкин. Ионноиндуцированные коронным разрядом процессы в супердисперсных частицах магнетита. 43. Н.Н.Черенда, А.П.Ласковнев, А.В.Басалай, В.В.Углов, В.М.Асташинский, А.М.Кузьмицкий. Структурно-фазовые изменения в бронзе, легированной атомами титана под действием компрессионных плазменных потоков. 44. В.И.Шиманский, Н.Н.Черенда, В.В.Углов, В.М.Асташинский, А.М. Кузьмицкий. Модификация структурно-фазового состояния системы Nb/Ti компрессионными плазменными потоками. 45. М.Н. Шипко, В.Г. Костишин, М.А.Степович, В.В. Коровушкин. Модификация свойств ферритовых материалов с гексагональной структурой при обработке в плазме коронного разряда. 22